[1]. Substitution of Sn in the high-permeability MnZn ferrite for wide temperature applications
Ceramic International 50/ 印刷中- （2024年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] Yao Ying, Huanhuan Zheng, Zhaocheng Li, Jingwu Zheng, Jing Yu, Liang Qiao, Wangchang Li, Juan Li, Wei Cai, Naoki Wakiya, Masahiro Yamaguchi, Shenglei Che [DOI]
[2]. Spontaneous superlattice formation and thermoelectric properties of A-site excess (La, Sr)CoO3 thin films prepared using dynamic aurora pulsed laser deposition
Emergent Mater. 7/ 911-923 （2024年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] M. Arockia Jenisha, S. Koda, K. Gunasekaran, T. Kawaguchi, N. Sakamoto, S. Harish, M. Navaneethan, N. Wakiya [DOI]
[3]. Multiple approaches of band engineering and mass fluctuation of solution-processed n-type Re-doped MoS2 nanosheets for enhanced thermoelectric power factor
J. Colloid Interf. Sci. 653/ 1150-1165 （2024年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] M. Arockia Jenisha, S. Kavirajan, S. Harish, S. Kamalakannan, J. Archana, E. Senthil Kumar, Naoki Wakiya , M. Navaneethan [DOI]
[4]. Coupling of band shift and phase transition for enhanced electrical conductivity in p-type metallic CuS towards mid-temperature thermoelectric application
Emergent Mater. 7/ 171-186 （2023年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] M. Arockia Jenisha, S. Kavirajan, S. Harish, C. Kanagaraj, S. Kamalakannan, E. Senthil Kumar, J. Archana, Naoki Wakiya , M. Navaneethan [DOI]
[5]. ガーネット型立方晶固体電解質粉体の低温合成におよぼすドーパントの影響
粉体工学会誌 60/11 656-662 （2023年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] 鈴木久男、川口昂彦、坂元尚紀、脇谷尚樹、Jeevan Kumar Padrrti, 平井慈人、大野智也 [DOI]
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[1]. セラミックデータブック2022-23：ゾル-ゲル法の新展開 ―ガラス理論に基づく機能性酸化物前駆体の分子設計と薄膜及びナノ粒子への応用
工業製品技術協会 （2023年）
[著書の別]著書（教育）
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]鈴木久男, 大野智也, 新井貴司, 脇谷尚樹, 坂元尚紀, 川口昂彦 [担当頁] 44-50
[2]. セラミックデータブック2017
工業製品技術協会 （2017年）
[著書の別]著書（研究）
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]脇谷尚樹,川口昂彦,坂元尚紀,篠崎和夫,鈴木久男 [担当範囲] ダイナミックオーロラPLD法による自発的な超格子構造の生成 [総頁数] 164 [担当頁] 72-77
[3]. 全固体電池のイオン伝導性向上技術と材料、製造プロセスの開発
（株）技術情報協会 （2017年）
[著書の別]著書（研究）
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]鈴木久男,坂元尚紀,P. Jeevan Kumar,川口昂彦,脇谷尚樹 [担当範囲] ガーネット型単相立方晶ナノ粒子の低温合成技術 [担当頁] 31-39
[4]. セラミックス機能化ハンドブック
(株)エヌ・ティー・エス （2011年）
[著書の別]著書（研究）
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]脇谷尚樹,坂元尚紀,篠崎和夫,鈴木久男
[備考] 共著担当箇所(第4章 集積化、多層化 第3節209-218)
[5]. マテリアルインテグレーション 「フェライト微粒子のバイオ分野への応用の現状と新しい応用の可能性」
ティー・アイ・シー （2007年）
[著書の別]著書（研究）
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]脇谷尚樹,坂元尚紀,鈴木久男,生駒俊之,村岡桂舟,吉岡朋彦,田中順三,櫻井修,篠崎和夫
[備考] 共著担当箇所(44-48)
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[1]. ダイナミックオーロラPLD法によるセラミックス薄膜の作製 ～成膜時の磁場印加効果～
第81回CVD研究会 （2024年8月29日） 招待講演
[発表者]脇谷尚樹
[備考] はまきたプラザホテル
[2]. ダイナミックオーロラPLD法によるペロブスカイト構造酸化物薄膜のエピタキシャル成長におよぼす格子定数のミスマッチの影響
電子セラミック・プロセス研究会第199回研究会 （2024年3月2日） 招待講演
[発表者]脇谷尚樹
[3]. Computer Simulation of Spontaneous Superlattice Formation in Sr-Ti-O Thin Film by Dynamic Aurora PLD
AFMD-2024 （2024年2月26日） 招待講演
[発表者]Naoki Wakiya, Ayano Iizuka, Takahiko Kawaguchi, Naonori Sakamoto
[備考] チェンナイ（インド）、キーノート
[4]. ダイナミックオーロラPLD法によるセラミックス薄膜のエピタキシャル成長
日本セラミックス協会第62回セラミックス基礎科学討論会 （2024年1月） 招待講演
[発表者]脇谷尚樹、川口昂彦、坂元尚紀
[備考] 上智大学
[5]. Computer Simulation of Spontaneous Superlattice Formation in Sr-Ti-O Thin Film Deposited by Dynamic Aurora PLD Using Phase Field Method
ICMAT2023 （2023年6月） 招待講演
[発表者]Naoki Wakiya
[備考] シンガポール
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[1]. 国内共同研究 生体親和性を有するアルミナ被服の低温合成
分担 （ 2018年5月 ～ 2019年3月 ）
[備考] 研究代表者：松田晃史東京工業大学講師
[2]. 企業等からの受託研究 ＬＳＭＣＤ法による湿式アルミナ膜の低温α化技術の研究
代表 （ 2018年4月 ～ 2019年3月 )
[相手先] 三菱マテリアル
[3]. 国内共同研究 新しい透明酸化物を用いた光シャッター型サングラスに関する研究
分担 （ 2018年3月 ～ 2019年3月 )
[相手先] 名古屋大学
[備考] 研究代表者：山田智明名古屋大学准教授
[4]. 国内共同研究 新しい透明酸化物を用いた光シャッター型サングラスに関する研究
分担 （ 2017年6月 ～ 2018年3月 )
[相手先] 名古屋大学
[備考] 研究代表者：山田智明名古屋大准教授
[5]. 企業等からの受託研究 薄膜技術を用いた、全固体電池用界面の設計指針の導出
代表 （ 2017年4月 ～ 2018年3月 )
[相手先] パナソニック
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[1]. スマートウィンドウを目指したガラス基板上へのc-軸配向スピノーダル分解薄膜の作製 （ 2022年4月 ～ 2025年3月 ） 基盤研究(B) 代表
[2]. 磁場印加PLDを用いた誘電体-磁性体複合薄膜における自発的相分離の動力学 （ 2018年4月 ～ 2021年3月 ） 基盤研究(B) 代表
[3]. 磁場印加PLD法による半導体／絶縁体超格子薄膜の自発的生成と巨大熱電特性 （ 2015年4月 ～ 2018年3月 ） 基盤研究(B) 代表
[4]. ミリサイズ高分子球の最密充填構造をテンプレートに用いた焦電センサアレイの作製 （ 2013年4月 ～ 2015年3月 ） 挑戦的萌芽研究 代表
[5]. 2次元最密充填球殻構造を用いた磁気電気光学フォトニック結晶の作製 （ 2011年4月 ） 挑戦的萌芽研究 代表
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[1]. ダイナミックオーロラPLD装置の開発とこれを用いた新材料創成に関する研究 （2021年12月 ) [提供機関] 浜松電子工学奨励会 [制度名] 高柳記念賞 [担当区分] 研究代表者
[2]. 貫通型ポーラスシリコンを基板に用いた 半導体式ガスセンサーによる乳がんの早期発見 （2021年10月 - 2022年3月 ) [提供機関] 静岡大学 [制度名] 学長裁量経費 [担当区分] 研究代表者
[3]. 生体親和性の高いコアシェル型複合磁性微粒子の合成 （2016年3月 ) [提供機関] 公益財団法人ホソカワ粉体工学振興財団 [制度名] 研究助成金 [担当区分] 研究代表者
[4]. （2014年9月 - 2015年8月 ) [提供機関] 村田学術振興財団 [制度名] 研究助成金
[5]. （2013年8月 - 2014年3月 ) [提供機関] JST [制度名] A-STEP フィージビリティスタディステージ 探索タイプ
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[1]. 高柳記念賞 ダイナミックオーロラPLD装置の開発とこれを用いた新材料創成に関する研究 （2021年12月)
[授与機関] （公財）浜松電子工学奨励会
[2]. 日本セラミックス協会 『フェロー表彰』 気相法によるセラミックス薄膜作製の新展開 （2020年6月)
[授与機関] 日本セラミックス協会
[3]. 日本学術振興会の『特別研究員等審査会専門委員（書面担当）』における「有意義な審査意見を付していただいた専門委員等」としての表彰 （2018年7月)
[授与機関] 日本学術振興会
[4]. 学術賞 （2017年6月)
[授与機関] 日本セラミックス協会
[5]. The Editor-in-Chief Award of Distinguished Reviewer in 2014 （2015年3月)
[備考] Journal of the Ceramics Society of Japan（日本セラミックス協会）
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[1]. 高速断続切削加工においてすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具 (2017年12月15日) [特許番号] 特許第6257142号
[2]. すぐれた耐チッピング性、耐剥離性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具 (2017年4月12日) [特許番号] 特許第103182536号
[備考] 中国特許
[3]. 高速重切削においてすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具 (2016年10月19日) [特許番号] ZL201210528346.X
[備考] 中国特許
[4]. 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具 [出願番号] 特願2016-165393 (2016年8月26日)
[5]. 高速断続切削加工においてすぐれた潤滑性、耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具 (2016年8月3日) [特許番号] ZL201310087419.0
[備考] 中国特許
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[1]. AFMD-2024 （2024年2月)
[役割] 責任者以外 [開催場所] チェンナイ（インド）
[2]. MRM2021 Symposium H-1 （2021年12月)
[役割] 責任者(議長、実行委員長等） [開催場所] 横浜パシフィコノース
[3]. MRMフォーラム2020 （2020年12月)
[役割] 責任者(議長、実行委員長等） [開催場所] オンライン
[4]. 第36回日本セラミックス協会関東支部研究発表会 （2020年9月)
[役割] 責任者(議長、実行委員長等） [開催場所] オンライン
[5]. 日本セラミックス協会 電子材料部会 第39回電子材料研究討論会 （2019年11月)
[役割] 責任者(議長、実行委員長等） [開催場所] ういんく愛知
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[1]. 日本セラミックス協会電子材料部会 （2015年1月 - 2016年1月 )
[備考] エレクトロセラミックスセミナー主査
[2]. 日本セラミックス協会電子材料部会 （2014年4月 - 2015年3月 )
[備考] 庶務
[3]. 日本セラミックス協会電子材料部会 （2013年1月 )
[備考] 副会計
[4]. 学術雑誌等の編集(日本セラミックス協会学術論文誌) （2012年5月 - 2013年3月 )
[備考] 編集委員長（主査）
[5]. 学術雑誌等の編集(日本セラミックス協会学術論文誌) （2010年4月 - 2014年3月 )
[備考] 編集委員
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