[1]. 化学気相堆積法のための多目的最適化アルゴリズムを用いた反応機構自動解析システムの開発(2)
第45回ケモインフォマティクス討論会 （2022年11月19日） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏, 小澤 鉄平, 久保田 伸輔
[備考] 開催場所（福岡県春日市）
主催団体名（日本化学会ケモインフォマティクス部会）
[2]. 化学気相成長法を対象とした反応モデル自動解析システムの開発
データサイエンス特別講義 （2022年11月15日） 招待講演
[発表者]高橋 崇宏
[備考] 開催場所（オンライン）
主催団体名（奈良先端科学技術大学院大学）
[3]. 化学気相堆積法のための多目的最適化アルゴリズムを用いた反応機構自動解析システムの開発
第44回ケモインフォマティクス討論会 （2021年12月10日） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏, 新井 天一郎, 久保田 伸輔, 仲澤 英祐
[備考] 開催場所（オンライン）
主催団体名（日本化学会ケモインフォマティクス部会）
[4]. CVD法における進化的多目的最適化アルゴリズムを用いた自動実験計画システムの開発と評価
第42回ケモインフォマティクス討論会 （2019年10月29日） 招待講演以外
[発表者]亀井 健太, 仲澤 英祐, 土屋 諒介, 荒川 正幹, 高橋 崇宏
[備考] 開催場所（東京都文京区）
主催団体名（日本化学会ケモインフォマティクス部会）
[5]. 多様な形状のCVD反応装置における成膜速度分布厳密解の導出および計算速度向上
第42回ケモインフォマティクス討論会 （2019年10月29日） 招待講演以外
[発表者]仲澤 英祐, 増岡 大起, 鈴木 健太, 高橋 崇宏
[備考] 開催場所（東京都文京区）
主催団体名（日本化学会ケモインフォマティクス部会）
[6]. An automatic modeling system of the reaction mechanisms for chemical vapor deposition processes using evolutionary algorithms
ICPAC Yangon 2019 （2019年8月5日） 招待講演
[発表者]Takahiro Takahashi
[備考] 開催場所（Yangon, Myanmar）
[7]. Derivation of the analytical solutions of deposition profiles in chemical vapor deposition reactors and their application to high-throughput modeling of reactions
The EuroCVD 22 Baltic ALD 16 Conference （2019年6月25日） 招待講演以外
[発表者]Takahashi Takahiro, Nakazawa Eisuke, Masuoka Daiki, Suzuki Kenta
[備考] 開催場所（Luxembourg, Luxembourg）
[8]. The automatic experimental design for modelling the reaction mechanism of chemical vapor deposition using multi-objective optimization algorithms
The EuroCVD 22 Baltic ALD 16 Conference （2019年6月25日） 招待講演以外
[発表者]Takahashi Takahiro, Tsuchiya Ryosuke, Arakawa Masamoto
[備考] 開催場所（Luxembourg, Luxembourg）
[9]. 化学気相堆積法における多目的最適化手法に基づく自動実験計画法の開発
第41回ケモインフォマティクス討論会 （2018年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏, 土屋 諒介, 荒川 正幹
[備考] 開催場所（熊本県熊本市）
主催団体名（日本化学会ケモインフォマティクス部会）
[10]. CVD法における成膜速度分布厳密解の導出とハイスループット自動解析への応用
第41回ケモインフォマティクス討論会 （2018年10月） 招待講演以外
[発表者]仲澤 英祐, 増岡 大起, 鈴木 健太, 高橋 崇宏
[備考] 開催場所（熊本県熊本市）
主催団体名（日本化学会ケモインフォマティクス部会）
[11]. 化学気相堆積法のための自動実験計画システムの開発と評価
第40回ケモインフォマティクス討論会 （2017年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏
[備考] 開催場所（⼭⼝県宇部市）
主催団体名（日本化学会情報化学部会）
[12]. The automatic system of experimental design using bio-inspired algorithms for the development of chemical vapor deposition process
The Joint EuroCVD 21 – Baltic ALD 15 Conference （2017年6月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Rikuto Kura
[備考] 開催場所（Linköping, Sweden）
[13]. The calculation method of deposition profiles in chemical vapor deposition reactors using improved basis functions
The Joint EuroCVD 21 – Baltic ALD 15 Conference （2017年6月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Kazumasa Suzuki
[備考] 開催場所（Linköping, Sweden）
[14]. 半導体デバイス製造のためのスマートファクトリー／ラボ実現へのアプローチ
第4回ケモインフォマティクス若手の会 （2016年9月） 招待講演
[発表者]高橋 崇宏
[備考] 開催場所（静岡県浜松市）
主催団体名（日本化学会情報化学部会）
[15]. 化学気相堆積における実験自動計画アルゴリズムの開発と評価
第38回ケモインフォマティクス討論会 (旧情報化学討論会) （2015年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏
[備考] 開催場所（東京都文京区）
主催団体名（日本化学会情報化学部会）
[16]. バイオインスパイアードアルゴリズムを用いた化学気相堆積における成膜速度分布計算方法の開発
第38回ケモインフォマティクス討論会 (旧情報化学討論会) （2015年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏,鈴川 元希,児玉 純一,江間 義則
[備考] 開催場所（東京都文京区）
主催団体名（日本化学会情報化学部会）
[17]. 化学気相堆積法のためのバイオインスパイアードアルゴリズムを用いた薄膜生成反応機構自動解析システムの性能評価
第38回ケモインフォマティクス討論会 (旧情報化学討論会) （2015年10月） 招待講演以外
[発表者]倉 陸人,阿部 浩士,高橋 崇宏,江間 義則
[備考] 開催場所（東京都文京区）
主催団体名（日本化学会情報化学部会）
[18]. The automatic experimental design for modeling the reaction mechanisms of chemical vapor deposition processes
EuroCVD 20 （2015年7月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Sempach, Switzerland）
[19]. A calculation method of deposition profiles in chemical vapor deposition reactors using bio-inspired algorithms
EuroCVD 20 （2015年7月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Taeka Inagaki,Shingo Nariai,Junichi Kodama,Masamoto Arakawa, Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Sempach, Switzerland）
[20]. 化学気相堆積における成膜実験計画の自動化に関する研究
第37回情報化学討論会 （2014年11月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏,江間 義則
[備考] 開催場所（愛知県豊橋市）
主催団体名（日本化学会情報化学部会）
[21]. Bio-inspiredアルゴリズムを用いたCVDプロセスのための自動研究開発システムに関する研究
化学工学会第46回秋季大会 （2014年9月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,阿部浩士,荒川正幹,江間義則
[備考] 開催場所（福岡県福岡市）
[22]. GAを用いたCVDの成膜速度分布に関する計算アルゴリズムの開発と評価 (3)
化学工学会第46回秋季大会 （2014年9月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,長谷部恭弘,稲垣妙香,成合真吾,江間義則
[備考] 開催場所（福岡県福岡市）
[23]. An Automatic Modeling System for the Reaction Mechanisms of Chemical Vapor Deposition Processes Using Bio-Inspired Algorithms
NanoEnergy 2014 （2014年2月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Masamoto Arakawa,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（London, UK）
[24]. 実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(3)
第36回情報化学討論会 （2013年11月） 招待講演以外
[発表者]稲垣妙香,成合真吾,児玉純一,荒川正幹,江間義則
[URL]
[備考] 開催場所（茨城県つくば市）
[25]. バイオインスパイアードアルゴリズムを用いた化学気相堆積プロセスにおける反応機構自動解析システムの開発
第36回情報化学討論会 （2013年11月） 招待講演以外
[発表者]阿部浩士,荒川正幹,江間義則
[URL]
[備考] 開催場所（茨城県つくば市）
[26]. Bio-inspiredアルゴリズムを用いた反応機構自動解析システムの開発と評価
化学工学会第45回秋季大会 （2013年9月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,阿部浩士,荒川正幹,江間義則
[備考] 開催場所（岡山県岡山市）
[27]. GAを用いたCVDの成膜速度分布に関する計算アルゴリズムの開発と評価 (2)
化学工学会第45回秋季大会 （2013年9月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,河村健,長谷部恭弘,江間義則
[備考] 開催場所（岡山県岡山市）
[28]. Development of the automatic modeling system for reaction mechanisms using REX+JGG
EuroCVD 19 （2013年9月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Kohei Kawai,Hiroyuki Nakai,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Varna, Bulgaria）
[29]. A calculation method of deposition profiles in CVD reactors using genetic algorithms
EuroCVD 19 （2013年9月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Ken Kawamura,Kazuya Takahashi,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Varna, Bulgaria）
[30]. REX+JGGを用いたCVDプロセスの反応機構自動解析システムの開発
第35回情報化学討論会 （2012年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏,河合 晃平,中井 寛之,金原 宏樹,江間 義則
[URL]
[備考] 開催場所（広島県東広島市）
[31]. 実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(2)
第35回情報化学討論会 （2012年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏,長谷部 恭弘,稲垣 妙香,成合 真吾,江間 義則
[URL]
[備考] 開催場所（広島県東広島市）
[32]. REX+JGGを用いた反応機構自動解析システムの評価と改善
化学工学会第44回秋季大会 （2012年9月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,河合晃平,中井寛之,金原宏樹,江間義則
[備考] 開催場所（宮城県仙台市）
[33]. GAを用いたCVDの成膜速度分布に関する計算アルゴリズムの開発と評価
化学工学会第44回秋季大会 （2012年9月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,河村健,長谷部恭弘,稲垣妙香,高橋和也,江間義則
[備考] 開催場所（宮城県仙台市）
[34]. An Automatic System Using Mobile-agent Software to Model the Calculation Process of a CVD Film Deposition Simulator
EuroCVD 18 （2011年9月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Noriyuki Fukui,Masamoto Arakawa,Kimito Funatsu,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Kinsale, Ireland）
[35]. An Automatic Modeling System of the Reaction Mechanisms for CVD Processes Using Real-coded Genetic Algorithms
EuroCVD 18 （2011年9月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Hiroyuki Nakai,Hiroki Kinpara,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Kinsale, Ireland）
[36]. 実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVDプロセスの反応機構自動解析システムの開発
第33回情報化学討論会 （2010年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,中井寛之,金原宏樹,福井紀之,江間義則
[備考] 開催場所（徳島県徳島市）
[37]. 実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法
第33回情報化学討論会 （2010年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,高橋和也,河村健,長谷部恭弘,稲垣妙香,江間義則
[備考] 開催場所（徳島県徳島市）
[38]. REX/JGGを用いた反応機構自動解析システムの開発と評価
化学工学会第42回秋季大会 （2010年9月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,中井寛之,金原宏樹,福井紀之,江間義則
[備考] 開催場所（京都府京都市）
[39]. 遺伝的アルゴリズムに基づくCVDの成膜速度分布計算アルゴリズムに関する研究
化学工学会第42回秋季大会 （2010年9月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,高橋和也,河村健,長谷部恭弘,稲垣妙香,江間義則
[備考] 開催場所（京都府京都市）
[40]. スパッタリングによるTiO2:N薄膜多結晶の配向性
第57回応用物理学関係連合講演会 （2010年3月） 招待講演以外
[発表者]高山明大,高橋崇宏,江間義則
[備考] 開催場所（神奈川県平塚市）
[41]. 薄膜微細形状評価を用いたCVDプロセスの反応機構自動解析システムに関する研究
第32回情報化学討論会 （2009年10月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,江間義則
[備考] 開催場所（山口県宇部市）
[42]. Development of an Automatic Modeling System for Reaction Mechanisms in CVD Processes
EuroCVD 17 and CVD 17 （2009年10月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Vienna, Austria）
[43]. A Calculation Method of the Deposition Profiles in Chemical Vapor Deposition Reactors Using Basis Functions
2007 MRS Fall Meeting （2007年11月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Ken Kawamura,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Boston, MA, USA）
[44]. An Autonomous Mobile-Agent System to Model The Calculation Process of Film Depositions
2007 MRS Fall Meeting （2007年11月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Noriyuki Fukui,Masamoto Arakawa,Kimito Funatsu,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Boston, MA, USA）
[45]. An Autonomous Modeling System of the Calculation Processes of Film Deposition Simulator
EuroCVD16 （2007年9月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Noriyuki Fukui,Masamoto Arakawa,Kimito Funatsu,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Scheveningen, Den Haag, The Netherlands）
[46]. 遺伝的アルゴリズムを用いた拡散反応方程式の解法に関する研究
第29回情報化学討論会 （2006年11月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,江間義則
[備考] 開催場所（新潟県新潟市）
[47]. An Autonomous Modeling System of Process Simulators for Film Depositions Using Software Agent Technology
2005 MRS FALL MEETING （2005年11月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Masamoto Arakawa,Kimito Funatsu,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Boston, MA, USA）
[48]. A Calculation Method of Deposition Profiles in Chemical Vapor Deposition Reactors Using Genetic Algorithms for The Automatic Modeling System of Reaction Mechanisms
2005 MRS FALL MEETING （2005年11月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Boston, MA, USA）
[49]. ソフトウェアエージェントによる成膜形状計算の自動モデル化と最適成膜条件の探索
第28回情報化学討論会 （2005年11月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,荒川正幹,船津公人,江間義則
[備考] 開催場所（大阪府吹田市）
[50]. Automatic modelling system for reaction mechanisms using a novel calculation method based on evolutionary computing
inter-academia 2005 （2005年9月） 招待講演以外
[発表者]T. Takahashi,Y. Ema
[備考] 開催場所（Wuppertal, Germany）
[51]. Automatic modelling of calculation processes of simulators for film depositions using software agent
inter-academia 2005 （2005年9月） 招待講演以外
[発表者]T. Takahashi,M. Arakawa,K. Funatsu,Y. Ema
[備考] 開催場所（Wuppertal, Germany）
[52]. Automatic modeling of calculation processes of simulators using software agent technology and chemometrics technique
EUROCVD-15 （2005年9月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Masamoto Arakawa,Kimito Funatsu,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Bochum, Germany）
[53]. Elaboration on the automatic modeling system for reaction mechanisms using a novel calculation method
EUROCVD-15 （2005年9月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Kazuya Takahashi,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Bochum, Germany）
[54]. ソフトウェアエージェントを用いた成膜プロセスシミュレーション計算過程の自動モデル化に関する研究
化学工学会第70年会 （2005年3月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,荒川正幹,船津公人,江間義則
[備考] 開催場所（愛知県名古屋市）
[55]. 超微細加工を対象とした成膜形状計算の自動モデリングシステムの開発と応用
第27回情報化学討論会 （2004年12月） 招待講演以外
[発表者]高橋崇宏,荒川正幹,船津公人,江間義則
[備考] 開催場所（茨城県つくば市）
[56]. Automatic Modeling Of Reaction Systems In Chemical Vapor Depositions Based On Evolutionary Computing
Gordon Research Conference Combinatorial and High Throughput Materials Science （2004年1月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Kimito Funatsu,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Buellton, CA, USA）
[57]. Automatic Modeling Of Reaction Systems In Chemical Vapor Depositions Based On Evolutionary Computing
会議名(Gordon Research Conference Combinatorial and High Throughput Materials Science) （2004年1月） 招待講演
[発表者]高橋 崇宏
[備考] 主催団体名(Gordon Research Conference) 開催地（Buellton, CA,USA）
[58]. Automatic Reaction Modeling in Chemical Vapor Depositions Using Multiple Process Simulators
2003 MRS Fall Meeting （2003年12月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Kimito Funatsu,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Boston, MA, USA）
[59]. 反応機構自動モデリングシステムにおけるインターフェースエージェントの開発
第26回情報化学討論会 （2003年11月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏,荒川 正幹,稲垣 泰晴,船津 公人,江間 義則
[備考] 開催場所（東京都品川区）
[60]. 反応モデル自動解析システムにおけるインターフェースエージェントの開発
第64回応用物理学会学術講演会 （2003年8月） 招待講演以外
[発表者]高橋 崇宏,稲垣 泰晴,江間 義則
[備考] 開催場所（福岡県福岡市）
[61]. Study of the Automatic Modeling of Reaction Systems for Chemical Vapor Deposition Processes using Genetic Algorithms
CVD XVI AND EUROCVD 14 （2003年4月） 招待講演以外
[発表者]Takahiro Takahashi,Kimito Funatsu,Yoshinori Ema
[備考] 開催場所（Paris, France）
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