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静岡大学教員データベース - 教員個別情報 : 荻野 明久 （OGINO Akihisa）

荻野 明久 （OGINO Akihisa）
准教授
学術院工学領域 - 電子物質科学系列
工学部 - 電子物質科学科 大学院総合科学技術研究科工学専攻 - 電子物質科学コース
大学院光医工学研究科 - 光医工学共同専攻 創造科学技術研究部 - ナノビジョンサイエンス部門


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最終更新日：2026/03/20 2:05:33

教員基本情報

【取得学位】
博士(工学) 　静岡大学 　 2002年3月
【研究分野】
エネルギー - プラズマ応用科学
ナノテク・材料 - 薄膜、表面界面物性
【現在の研究テーマ】
熱電子発電
プラズマ
【研究キーワード】
熱電子発電, プラズマ, 放電
【所属学会】
・電気学会
・プラズマ・核融合学会
・応用物理学会
 

研究業績情報

【論文　等】
[1]. MoS2/p-Si Emitter for Photon Enhanced Thermionic Energy Converter
Proc. of ISPlasma 2026/IC-PLANTS2026 18/ 1-1 （2026年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] Rikiya Matsushima, Akihisa Ogino
[2]. Hydrogenation of sodium metaborate using low-pressure hydrogen mixed gas plasma
Jpn. J. Appl. Phys. 65/ 1-7 02SP11 （2026年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] Akihisa Ogino, Takuya Takahashi [URL] [DOI]
[3]. Photon-enhanced thermionic emission characteristics of Cs deposited Mg-doped InGaN
Jpn. J. Appl. Phys. 65/ 1-9 03SP02 （2026年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] Jotaro Tashiro, Kaisei Suzuki, Shigeya Kimura, Hisao Miyazaki and Akihisa Ogino [URL] [DOI]
[4]. Uniform Monolayer MoS2 Continuous Film Growth by Low-Pressure CVD for Energy Harvesting
Proc. of The 46th International Symposium on Dry Process (DPS2025) 46/ 1-1 （2025年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] Rikiya Matsushima, Akihisa Ogino
[5]. The Role of Fluorine in MoS2 Synthesis on Fluorine terminated substrate
Proc. of The 46th International Symposium on Dry Process (DPS2025) 46/ 1-1 （2025年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] Ryotaro Kito, Akihisa Ogino
【学会発表・研究発表】
[1]. p-Si上のMoS2表面層からの光支援熱電子放出におけるキャリアダイナミクス
第73回応用物理学会春季学術講演会 （2026年3月16日） 招待講演以外
[発表者]松嶋 力哉、荻野 明久
[備考] 東京科学大 大岡山キャンパス, 2026.3.15-18, 16p-PA7-24.
[2]. CsフリーInGaNエミッタの光支援熱電子放出特性
第73回応用物理学会春季学術講演会 （2026年3月15日） 招待講演以外
[発表者]鈴木 開晴、木村 重哉、宮崎 久生、荻野 明久
[備考] 東京科学大 大岡山キャンパス, 2026.3.15-18, 15a-PB2-13.
[3]. MoS2/p-Si Emitter for Photon Enhanced Thermionic Energy Converter
ISPlasma 2026/IC-PLANTS2026 （2026年3月4日） 招待講演以外
[発表者]Rikiya Matsushima, Akihisa Ogino
[備考] 2-6 March, 2026, Meijo University, Aichi, Japan, 04P-50.
[4]. Uniform Monolayer MoS2 Continuous Film Growth by Low-Pressure CVD for Energy Harvesting
The 46th International Symposium on Dry Process (DPS2025) （2025年11月14日） 招待講演以外
[発表者]Rikiya Matsushima, Akihisa Ogino
[備考] The Shiki Museum (Matsuyama), P2-36.
[5]. The Role of Fluorine in MoS2 Synthesis on Fluorine terminated substrate
The 46th International Symposium on Dry Process (DPS2025) （2025年11月14日） 招待講演以外
[発表者]Ryotaro Kito, Akihisa Ogino
[備考] The Shiki Museum (Matsuyama), P2-41.
【科学研究費助成事業】
[1]. フッ素終端表面における原子層二次元半導体の選択的成長 （ 2025年4月 ～ 2028年3月 ） 基盤研究(C) 代表

[2]. マイクロ波プラズマによる循環利用型水素キャリア合成と高効率化に関する研究 （ 2022年4月 ～ 2025年3月 ） 基盤研究(C) 代表

[3]. 層状半導体材料を用いた新規薄型光支援熱電子エミッタの開発 （ 2018年4月 ～ 2021年3月 ） 基盤研究(C) 代表

[4]. 半導体エミッタの活性化による高効率熱電子放出と光熱併用熱電子発電への応用 （ 2014年4月 ～ 2017年3月 ） 基盤研究(C) 代表

[5]. ナノスケールプラズマジェット照射可能なプローブ顕微鏡微細加工システムの開発 （ 2014年4月 ～ 2017年3月 ） 基盤研究(B) 分担

【外部資金（科研費以外）】
[1]. （2014年4月 - 2015年3月 ) [提供機関] 一般財団法人東海産業技術振興財団 [制度名] 助成研究 「研究育成型」 [担当区分] 研究代表者
[2]. （2013年10月 - 2014年3月 ) [提供機関] 公益財団法人　谷川熱技術振興基金 [制度名] 研究助成 [担当区分] 研究代表者
[3]. （2013年1月 - 2014年3月 ) [提供機関] 公益財団法人東電記念財団 [制度名] 研究助成(一般研究) [担当区分] 研究代表者
[4]. 風力発電その他未利用エネルギー （2012年7月 - 2013年3月 ) [提供機関] 独立行政法人　新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO) [制度名] 新エネルギーベンチャー技術革新事業
[5]. （2010年6月 - 2010年6月 ) [提供機関] 財団法人村田学術振興財団 [制度名] 第25回研究者海外派遣援助 [担当区分] 研究代表者
[備考] 派遣先：アメリカ、ノーフォーク 37th IEEE International Conference on Plasma Science 海外派遣：　Protein Grafting onto Chitosan Surface Using Low Temperature Microwave Pl
【受賞】
[1]. 応用物理学会 Poster Award フッ素終端Si基板によるMoS2合成の核形成抑制 （2024年11月)
[受賞者] 鬼頭 怜太郎、荻野 明久 [授与機関] 公益社団法人 応用物理学会
[備考] 2024年第85回応用物理学会秋季学術講演会にて受賞
[2]. 応用物理学会優秀論文賞 Thermionic emission and conversion properties of n-type AlGaN thin film cathodes grown on 6H–SiC substrates （2021年7月)
[受賞者] 木村 重哉, 吉田 学史, 内田 翔太, 荻野 明久 [授与機関] 応用物理学会
[備考] Shigeya Kimura, Hisashi Yoshida, Shota Uchida, and Akihisa Ogino; Jpn. J. Appl. Phys. 59 (2020) SGGF01.
[3]. BEST POSTER AWARD (OUTSTANDING POSTER AWARD) Surface Electronic Properties of Si-doped AlGaN and the Thermionic Emission Characteristics with Adsorption of Alkali Metal Atoms （2019年7月)
[受賞者] 木村 重哉, 吉田 学史, 内田 翔太, 荻野 明久 [授与機関] 第13回窒化物半導体国際会議組織委員会
[4]. 第10回プラズマエレクトロニクス賞 Effects of N2-O2 Gas Mixture Ratio on Microorganism Inactivation in Low-　Pressure Surface Wave Plasma （2012年3月)
[受賞者] 趙穎，荻野明久，永津雅章 [授与機関] 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
[備考] 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
[5]. 平成23年度プラズマ・核融合学会学会賞、第16回技術進歩賞 （2011年11月)
[備考] プラズマ・核融合学会学
【特許　等】
[1]. METHOD FOR PRODUCING MAGNESIUM HYDRIDE AND METHOD FOR PRODUCING TETRAHYDROBORATE [出願番号] 202010862324.1 (2020年8月25日) [特許番号] CN 112441558B (2024年5月7日)
[備考] 中国出願
[2]. METHOD FOR PRODUCING MAGNESIUM HYDRIDE AND METHOD FOR PRODUCING TETRAHYDROBORATE [出願番号] 16/999621 (2020年8月21日) [特許番号] 11542160 (2023年1月3日)
[備考] 米国特許 発明の名称：水素化マグネシウムの製造方法及びテトラヒドロほう酸塩の製造方法 公開日：2021年3月4日 公開番号：US-2021-0061658-A1
[3]. METHOD FOR PRODUCING MAGNESIUM HYDRIDE AND METHOD FOR PRODUCING TETRAHYDROBORATE [出願番号] 102020210583.9 (2020年8月20日)
[備考] ドイツ出願
[4]. テトラヒドロほう酸塩の製造方法 [出願番号] 特願2020-113022 (2020年6月30日) [特許番号] 特許第7345788号 (2023年9月8日)
[5]. 水素化マグネシウムの製造方法及びテトラヒドロほう酸塩の製造方法 [出願番号] 特願2020-103132 (2020年6月15日) [特許番号] 特許第7286110号 (2023年5月26日)
【学会・研究会等の開催】
[1]. ISPlasma 2025/IC-PLANTS2025 （2025年3月)
[役割] 責任者以外 [開催場所] 春日井市
[備考] 中部大学, 2025.3.3-7
[2]. APSPT-13/ISPlasma 2024/IC-PLANTS2024 （2024年3月)
[役割] 責任者以外 [開催場所] 名古屋市
[備考] 名古屋大学, 2024.3.3-7
[3]. ISPlasma2023/IC-PLANTS2023 （2023年3月)
[役割] 責任者以外 [開催場所] 岐阜市
[備考] 岐阜大学, 2023.3.5-9
[4]. ISPlasma2022/IC-PLANTS2022 （2022年3月)
[役割] 責任者以外 [開催場所] ONLINE
[備考] Held by ONLINE 2022.3.6-10
[5]. ISPlasma2021/IC-PLANTS2021 （2021年3月)
[役割] 責任者以外 [開催場所] ONLINE
[備考] Held by ONLINE 2021.3.7-11

教育関連情報

【今年度担当授業科目】
[1]. 全学教育科目（共通科目） 新入生セミナー （2025年度 - 前期 )
[備考] 副担当
[2]. 全学教育科目（共通科目） 身近なナノテク （2025年度 - 後期 )
[3]. 学部専門科目 電子物理数学 （2025年度 - 前期 )
[4]. 学部専門科目 プラズマ工学 （2025年度 - 後期 )
[5]. 学部専門科目 電磁気学Ⅰ （2025年度 - 後期 )
【指導学生数】
2024年度
卒研指導学生数（4年） 4 人
修士指導学生数 3 人
2023年度
卒研指導学生数（4年） 4 人
修士指導学生数 3 人
2022年度
卒研指導学生数（4年） 4 人
修士指導学生数 5 人
2021年度
卒研指導学生数（4年） 3 人
修士指導学生数 6 人 博士指導学生数(副指導) 1 人
2020年度
卒研指導学生数（4年） 4 人
修士指導学生数 5 人
【指導学生の受賞】
[1]. 応用物理学会 Poster Award (2024年11月)
[受賞学生氏名] 鬼頭 怜太郎 (総合科学技術研究科)
[授与団体名] 公益社団法人 応用物理学会
[備考] 第24回(2024年秋季) 講演題目：フッ素終端Si基板によるMoS2合成の核形成抑制 〇鬼頭 怜太郎、荻野 明久 https://www.jsap.or.jp/poster-award
[2]. POSTER AWARD (2019年11月)
[受賞学生氏名] 高橋 卓也 (総合科学技術研究科)
[授与団体名] 第4回生体医歯工学共同拠点国際シンポジウム組織委員会
[備考] For the poster entitled "Effect of Ammonia and Hydrocarbon Gases Addition to Hydrogen Plasma for Recycling Method of Sodium Borohydride"
[3]. 電気学会論文発表賞B (2008年4月)
[受賞学生氏名] 野口卓
[授与団体名] 電気学会
[4]. IEEE学生奨励賞 (2008年4月)
[受賞学生氏名] 進士晃輔
[授与団体名] IEEE Nagoya Section
[5]. IEEE学生奨励賞 (2007年4月)
[受賞学生氏名] 安澤栄気
[授与団体名] IEEE Nagoya Section
【その他教育関連情報】
[1]. サイクリング部 （2018年3月 )

社会活動

【講師・イベント等】
[1]. 公開講座 出張理科教室 （2025年11月 - 2025年11月 )
[内容] 出張リフレッシュ理科教室
[備考] 場所：水窪小学校(浜松市天竜区水窪町) 11/1 主催：公益社団法人応用物理学会東海支部
[2]. 公開講座 先生のためのリフレッシュ理科教室 （2025年8月 - 2025年8月 )
[内容] 先生のためのリフレッシュ理科教室
[備考] 場所：可美小学校(浜松市中央区若林町) 8/1 主催：公益社団法人応用物理学会東海支部
[3]. 公開講座 リフレッシュ理科教室 （2025年6月 - 2025年6月 )
[内容] リフレッシュ理科教室
[備考] 場所：クリエート浜松 6/21 主催：公益社団法人応用物理学会東海支部、公益社団法人 浜松文化振興財団
[4]. 出張講義 浜松南高校出張授業 （2024年11月 - 2024年11月 )
[内容] ナノテクノロジーを支える半導体製造技術
[備考] 場所：浜松南高校 2024.12.14
[5]. 公開講座 オンライン理科教室 （2024年10月 - 2024年10月 )
[内容] オンライン理科教室(Zoom)
[備考] 場所：オンライン 10/5 主催：公益社団法人応用物理学会東海支部
【学外の審議会・委員会等】
[1]. 応用物理学会機関誌企画・編集委員 （2026年4月 - 2028年3月 ) [団体名] 応用物理学会
[2]. 応用物理学会代議員 （2024年4月 - 2028年3月 ) [団体名] 応用物理学会
[3]. 応用物理学会大分類8プログラム委員 （2022年4月 - 2026年3月 ) [団体名] 応用物理学会
[4]. プラズマ・核融合学会代議員 （2019年4月 - 2021年3月 ) [団体名] プラズマ・核融合学会
[5]. 浜松工業会理事 （2018年7月 ) [団体名] 浜松工業会
【その他社会活動】
[1]. 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会幹事 （2016年4月 - 2018年3月 )
[備考] 活動内容(分科会内役割分担:インキュベーションホール実行委員、会計委員およびホームページ担当他)
[2]. 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会幹事 （2009年4月 - 2011年3月 )
[備考] 活動内容(分科会内役割分担:インキュベーションホール実行委員、会計委員およびホームページ担当他)
[3]. 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会幹事 （2008年4月 )
[備考] 活動内容(分科会内役割分担:会計およびホームページ担当)

国際貢献実績

管理運営・その他