静岡大学

氏名（Name）

キーワード（Keyword）

静岡大学教員データベース - 教員個別情報 : 梅本宏信（Umemoto Hironobu）

論文　等

【論文　等】
[1]. Photoresist Removal Using H Radicals Generated by Iridium Hot-Wire Catalyst　 Int. J. Polym. Sci. 2017/ 2983042/1-2983042/5 （2017年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]M. Yamamoto, S. Nagaoka, H. Umemoto, K. Ohdaira, T. Nishiyama, H. Horibe [2]. Decomposition Processes of Photoresist Polymers by H atoms Produced on Hot Wire Surfaces THIN SOLID FILMS (635)/(num) (27) - (31) （2017年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto , T. Kato , M. Takiguchi , S. Takagi , H. Horibe [3]. Hot Metal Wires as Sinks and Sources of B Atoms THIN SOLID FILMS (635)/(num) (78) - (81) （2017年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto , A. Miyata [4]. Enhancement of Removal Uniformity by Oxygen Addition for Photoresist Removal Using H Radicals Generated on a Tungsten Hot-Wire Catalyst　 J. Photopolym. Sci. Technol. 29/4 639- 642 （2016年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]M. Yamamoto, K. Maejima, H. Umemoto, K. Ohdaira, T. Shikama, T. Nishiyama, H. Horibe [5]. A Clean Source of B atoms without Using Explosive Boron Compounds Bull. Chem. Soc. Jpn. (89)/(num) (899) - (901) （2016年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,A. Miyata [6]. Oxygen Additive Amount Dependence of the Photoresist Removal Rate by Hydrogen Radicals Generated on a Tungsten Hot-Wire Catalyst JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55/7 076503/1-076503/5 （2016年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]○M. Yamamoto,H. Umemoto,K. Ohdaira,T. Shikama,T. Nishiyama,H. Horibe [7]. Decomposition Processes of Diborane and Borazane (Ammonia-borane Complex) on Hot Wire Surfaces THIN SOLID FILMS (595)/(num) (231) - (234) （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,A. Miyata [8]. Decomposition Processes of H3NBH3 (borazane), (BH)3(NH)3 (borazine), and B(CH3)3 (trimethylboron) on Heated W Wire Surfaces Chem. Phys. Lett. 639/ 7- 10 （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,A. Miyata,T. Nojima [9]. Enhancement of Photoresist Removal Rate by Using Atomic Hydrogen Generated under Low-pressure Conditions J. Photopolym. Sci. Technol. 28/2 303- 306 （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]M. Yamamoto,H. Umemoto,K. Ohdaira,S. Nagaoka,T. Shikama,T. Nishiyama,H. Horibe [10]. Determination of Singlet Oxygen and Electron Transfer Mediated Mechanisms of Photosensitized Protein Damage by Phosphorus(V)porphyrins Chem. Res. Toxicol. 28/ 2 (262) - (267) （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]K. Hirakawa [共著者]K. Hirakawa,H. Umemoto,R. Kikuchi,H. Yamaguchi,Y. Nishimura,T. Arai [11]. Gas-phase Diagnoses in Catalytic Chemical Vapor Deposition (Hot-Wire CVD) Processes THIN SOLID FILMS (575)/(num) (3) - (8) （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto [12]. Dependence of the Catalytic Decomposition of PH3 on Wire Material THIN SOLID FILMS (575)/(num) (9) - (11) （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto [13]. Production of B Atoms and BH Radicals from B2H6/He/H2 Mixtures Activated on Heated W Wires Journal of Physical Chemistry A 118/28 5156- 5163 （2014年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,T. Kanemitsu,A. Tanaka [14]. Wire diameter dependence in the catalytic decomposition of H2 JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53/5 05FM01/1-05FM01/4 （2014年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto [15]. Catalytic Decomposition of Phosphorus Compounds to Produce Phosphorus Atoms JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53/5 05FM02/1-05FM02/4 （2014年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,T. Kanemitsu,Y. Kuroda [16]. Molecular Dissociation and Vibrational Excitation on a Metal Hot Filament Surface Journal of Physics D, Applied Physics 47/2 025503/1- 025503/12 （2014年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]Y. A. Mankelevich [共著者]Y. A. Mankelevich,M.N.R. Ashfold,H. Umemoto [17]. Electrical Properties of ZnO Thin Films Grown on a-plane Sapphire Substrates using Catalytically Generated High-energy H2O THIN SOLID FILMS 549/ 18-21 （2013年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]K. Yasui [共著者]N. Yamaguchi,T. Takeuchi,E. Nagatomi,T. Kato,H. Umemoto [18]. Inference on the Productionn Mechanism of ZnO Thin Films from Activated Water and Dimethylzinc Molecules JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 52/9 096701/1-096701/4 （2013年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,T. Ishikawa,Y. Nishihara,K. Yasui,H. Nishiyama [19]. Catalytic Decomposition of PH3 on Heated Tungsten Wire Surfaces JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 51/8 086501/1-086501/9 （2012年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,Y. Nishihara,T. Ishikawa,S. Yamamoto [20]. In-situ production of PH3 from red phosphorus and atomic hydrogen CHEMICAL PHYSICS LETTERS 514/1-3 26-28 （2011年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,Y. Nishihara,T. Ishikawa [21]. Catalytic Decomposition of NH3 on Heated Ru and W surfaces THIN SOLID FILMS 519/14 4429-4431 （2011年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H.Umemoto [共著者]H. Umemoto,Y. Kashiwagi,K. Ohdaira,H. Kobayashi,K. Yasui [22]. Activation and Decomposition of N2 on Heated Tungsten Filament Surfaces Journal of Physical Chemistry C 115/14 6748-6756 （2011年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,T. Funae,Y. A. Mankelevich [23]. Production and Detection of H atoms and Vibrationally excited H2 molecules in CVD Processes CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 16/10-12 275-290 （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto [24]. A Clean Source of Ground-state N atoms: Decomposition of N2 on Heated Tungsten Appl. Phys. Express 3/7 076701- （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto [25]. 加熱金属触媒表面におけるラジカル生成機構(総説) 表面科学 31/4 191-195 （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]梅本宏信 [共著者]梅本宏信 [26]. Order of Reaction between Photoresist and Atomic Hydrogen Generated by a Tungsten Hot-Wire Catalyst Appl. Phys. Express 3/ 026501/1-026501/3 （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]T. Maruoka,A. Kono,H. Horibe,H. Umemoto [27]. Substrate Temperature Dependence of the Photoresist Removal Rate using Atomic Hydrogen Generated by Tungsten Hot-Wire Catalyst JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REV 49/1 016701- （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]T. Maruoka,A. Kono,H. Horibe,H. Umemoto [28]. Catalytic Decomposition of H2O(D2O) on a Heated Ir Filament to Produce O and OH(OD) Radicals The Open Chemical Physics Journal 2/ 32-36 （2009年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,H. Kusanagi [29]. Detection of Radical Species Produced by Catalytic Decomposition of H2, O2 and their Mixtures on Heated Ir Surfaces THIN SOLID FILMS 517/12 3446-3448 （2009年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,H. Kusanagi,K. Nishimura,M. Ushijima [30]. Photoresist Removal Using Atomic Hydrogen Generated by Hot-Wire Catalyzer and Effects on Si-wafer Surface JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REV 48/2 026503- （2009年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]H. Horibe,H. Umemoto,K. Takao,E. Kusano,M. Kase,S. Tagawa [31]. Novel plasmaless photoresist removal method in gas phase at room temperature ECS Transactions 19/3 423-429 （2009年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]T. Miura [共著者]M. Kekura,H. Horibe,M. Yamamoto,H. Umemoto [32]. Catalytic Decomposition of O2, NO, N2O and NO2 on a Heated Ir Filament to Produce Atomic Oxygen JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 41/22 225505- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,H. Kusanagi [33]. 有機ELの保護膜形成技術(解説) 月間ディスプレイ 14/9 49- （2008年） [査読] 無 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]部家彰 [共著者]松尾直人,南川俊治,仁木敏一,南茂平,増田淳,梅本宏信,松村英樹 [34]. Coverage Properties of SiNx Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposition on Trenched Substrates below 80 °C THIN SOLID FILMS 516/10 3000-3004 （2008年） [査読] 有 [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]A. Heya [共著者]T. Minamikawa,T. Niki,S. Minami,A. Masuda,H. Umemoto,N. Matsuo,,H. Matsumura [35]. Coating Techniques of Metal Chambers for Remote Catalytic Chemical Vapor Deposition Applications JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS 26/2 309-311 （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,S. Setoguchi,H. Uemura,H. Matsumura [36]. Production and Detection of Reducing and Oxidizing Radicals in the Catalytic Decomposition of H2/O2 Mixtures on Heated Tungsten Surfaces JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 103/3 034905- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,M. Moridera [37]. Cat-CVD SiN Passivation Films for OLEDs and Packaging Thin Solid Films 516/5 553- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]A. Heya [共著者]T. Minamikawa,T. Niki,S. Minami,A. Masuda,H. Umemoto,N. Matsuo,H. Matsumura [38]. Catalytic CVD Processes of Oxidizing Species and the Prevention of Oxidization of Heated Tungsten Filaments by H2 Thin Solid Films 516/5 829- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,S.G. Ansari,T. Morimoto,S. Setoguchi,H. Uemura [39]. Future Prospect of Remote Cat-CVD on the Basis of Gas-phase Diagnoses Thin Solid Films 516/5 500- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,H. Matsumura [40]. Production Yields of H(D) Atoms in the Reactions of N2(A 3 Sigma u+) with C2H4, C2H2 and their Deuterated Variants JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS 127/1 014304- （2007年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto [41]. H(D)-atom Yields in the Quenching of Xe(6s[3/2]1) by Methane, Ethane, Ethene, Ethyne, and their Isotopologues JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS 125/3 034306- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto [42]. Cat-CVD法による窒化シリコン薄膜の低温堆積-気相診断と膜質評価-(解説) 材料 55/2 142- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]梅本宏信 [共著者]梅本宏信,増田淳,松村英樹,南川俊治,部家彰,高野昌宏,米澤保人,仁木敏一,室井進 [43]. Formation of Highly Moisture-resistive SiNx Films on Si Substrate by Cat-CVD at Room Temperature Thin Solid Films 501/1-2 154- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]T. Minamikawa [共著者]A. Heya,T. Niki,M. Takano,Y. Yonezawa,S. Muroi,S. Minami,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura [44]. Various Applications of Silicon Nitride by Catalytic Chemical Vapor Deposition for Coating, Passivation and Insulating Films Thin Solid Films 501/1-2 149- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]A. Masuda [共著者]H. Umemoto,H. Matsumura [45]. High-Rate Deposition of SiNx Films over 100 nm/min by Cat-CVD Method at Low Temperatures below 80 °C Thin Solid Films 501/1-2 55- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]T. Osono [共著者]A. Heya,T. Niki,T. Minamikawa,S. Muroi,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura [46]. Rotational and Vibrational State Distributions of H2 Activated on a Heated Tungsten Filament JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 99/4 043510- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,S.G. Ansari,H. Matsumura [47]. Mass-Spectrometric Studies of Catalytic Chemical Vapor Deposition Processes of Organic Silicon Compounds Containing Nitrogen JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REV 45/2A 961- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto,T. Morimoto [共著者]S.G. Ansari,K. Yoneyama,T. Nakajima,A. Masuda,H. Matsumura,M. Nakamura,H. Umemoto [48]. Magnesium Interlayered Diamond Coating on Silicon Int. J. Ref. Met. Hard Mat. 24/6 418- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. A. Dar [共著者]S.G. Ansari,Z.A. Ansari,H. Umemoto,Y.-S. Kim,H.-K. Seo,G.-S. Kim,E.-K. Suh,H.-S. Shin [49]. H2 Dilution Effect in the Cat-CVD Processes of the SiH4/NH3 System Thin Solid Films 501/1-2 31- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto,S.G. Ansari [共著者]H. Umemoto,T. Morimoto,K. Yoneyama,A. Izumi,A. Masuda,H. Matsumura [50]. Present Status and Future Feasibility for Industrial Implementation of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Technology Thin Solid Films 501/1-2 58- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]H. Matsumura [共著者]A. Masuda,H. Umemoto [51]. 平成17年度リフレッシュ理科教室(北陸・信越支部石川会場)開催報告応用物理教育 29/2 37- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]梅本宏信 [共著者]梅本宏信,水谷五郎,高村禅 [52]. Cat-CVD法によるガスバリア膜の低温形成(解説) セラミックス 40/2 82- （2005年） [査読] 無 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]増田淳 [共著者]仁木敏一,部家彰,南川俊治,梅本宏信,松村英樹 [53]. Cat-CVD法の包装用ガスバリアフィルム製造工程への適用(解説) 月刊パックピア / - （2005年） [査読] 無 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]増田淳 [共著者]仁木敏一,部家彰,南川俊治,梅本宏信,松村英樹 [54]. Moisture-Resistive Properties of SiNx Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposition below 100 °C for Flexible Organic Light Emitting Diode Displays Jpn. J. Appl. Phys. 44/4A 1923- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]A. Heya [共著者]T. Niki,M. Takano,Y. Yonezawa,T. Minamikawa,S. Muroi,S. Minami,T. Ikari,A. Izumi,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura [55]. Quantification of Gas-Phase H-Atom Number Density by Tungsten Phosphate Glass Jpn. J. Appl. Phys. 44/1B 732- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto,T. Morimoto [共著者]H. Umemoto,K. Yoneyama,A. Masuda,H. Matsumura,K. Ishibashi,H. Tawarayama,H. Kawazoe [56]. Technique for the Production, Preservation, and Transportation of H Atoms in Metal Chambers for Processings J. Vac. Sci. Technol. A 23/6 1728- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 責任著者 [著者] [責任著者]H. Umemoto,S.G. Ansari [共著者]H. Umemoto,T. Morimoto,K. Yoneyama,A. Masuda,H. Matsumura,M. Ikemoto,K. Ishibashi [57]. Improvement of Deposition Rate by Sandblast Treatment of Tungsten Wire in Catalytic Chemical Vapor Deposition Jpn. J. Appl. Phys. 44/4A 1943- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]A. Heya [共著者]T. Niki,M. Takano,Y. Douguchi,Y. Yonezawa,T. Minamikawa,S. Muroi,S. Minami,A. Izumi,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura [58]. Preparation of Low-Stress SiNx Films by Catalytic Chemical Vapor Deposition at Low Temperatures Jpn. J. Appl. Phys. 44/6A 4098- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない [責任著者・共著者の別] 共著者 [著者] [責任著者]M. Takano [共著者]T. Niki,A. Heya,T. Osono,Y. Yonezawa,T. Minamikawa,S. Muroi,S. Minami,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura

[1]. Photoresist Removal Using H Radicals Generated by Iridium Hot-Wire Catalyst　
Int. J. Polym. Sci. 2017/ 2983042/1-2983042/5 （2017年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]M. Yamamoto, S. Nagaoka, H. Umemoto, K. Ohdaira, T. Nishiyama, H. Horibe
[2]. Decomposition Processes of Photoresist Polymers by H atoms Produced on Hot Wire Surfaces
THIN SOLID FILMS (635)/(num) (27) - (31) （2017年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto , T. Kato , M. Takiguchi , S. Takagi , H. Horibe
[3]. Hot Metal Wires as Sinks and Sources of B Atoms
THIN SOLID FILMS (635)/(num) (78) - (81) （2017年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto , A. Miyata
[4]. Enhancement of Removal Uniformity by Oxygen Addition for Photoresist Removal Using H Radicals Generated on a Tungsten Hot-Wire Catalyst　
J. Photopolym. Sci. Technol. 29/4 639- 642 （2016年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]M. Yamamoto, K. Maejima, H. Umemoto, K. Ohdaira, T. Shikama, T. Nishiyama, H. Horibe
[5]. A Clean Source of B atoms without Using Explosive Boron Compounds
Bull. Chem. Soc. Jpn. (89)/(num) (899) - (901) （2016年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,A. Miyata
[6]. Oxygen Additive Amount Dependence of the Photoresist Removal Rate by Hydrogen Radicals Generated on a Tungsten Hot-Wire Catalyst
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55/7 076503/1-076503/5 （2016年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]○M. Yamamoto,H. Umemoto,K. Ohdaira,T. Shikama,T. Nishiyama,H. Horibe
[7]. Decomposition Processes of Diborane and Borazane (Ammonia-borane Complex) on Hot Wire Surfaces
THIN SOLID FILMS (595)/(num) (231) - (234) （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,A. Miyata
[8]. Decomposition Processes of H3NBH3 (borazane), (BH)3(NH)3 (borazine), and B(CH3)3 (trimethylboron) on Heated W Wire Surfaces
Chem. Phys. Lett. 639/ 7- 10 （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,A. Miyata,T. Nojima
[9]. Enhancement of Photoresist Removal Rate by Using Atomic Hydrogen Generated under Low-pressure Conditions
J. Photopolym. Sci. Technol. 28/2 303- 306 （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]M. Yamamoto,H. Umemoto,K. Ohdaira,S. Nagaoka,T. Shikama,T. Nishiyama,H. Horibe
[10]. Determination of Singlet Oxygen and Electron Transfer Mediated Mechanisms of Photosensitized Protein Damage by Phosphorus(V)porphyrins
Chem. Res. Toxicol. 28/ 2 (262) - (267) （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]K. Hirakawa [共著者]K. Hirakawa,H. Umemoto,R. Kikuchi,H. Yamaguchi,Y. Nishimura,T. Arai
[11]. Gas-phase Diagnoses in Catalytic Chemical Vapor Deposition (Hot-Wire CVD) Processes
THIN SOLID FILMS (575)/(num) (3) - (8) （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto
[12]. Dependence of the Catalytic Decomposition of PH3 on Wire Material
THIN SOLID FILMS (575)/(num) (9) - (11) （2015年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto
[13]. Production of B Atoms and BH Radicals from B2H6/He/H2 Mixtures Activated on Heated W Wires
Journal of Physical Chemistry A 118/28 5156- 5163 （2014年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,T. Kanemitsu,A. Tanaka
[14]. Wire diameter dependence in the catalytic decomposition of H2
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53/5 05FM01/1-05FM01/4 （2014年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto
[15]. Catalytic Decomposition of Phosphorus Compounds to Produce Phosphorus Atoms
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53/5 05FM02/1-05FM02/4 （2014年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,T. Kanemitsu,Y. Kuroda
[16]. Molecular Dissociation and Vibrational Excitation on a Metal Hot Filament Surface
Journal of Physics D, Applied Physics 47/2 025503/1- 025503/12 （2014年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]Y. A. Mankelevich [共著者]Y. A. Mankelevich,M.N.R. Ashfold,H. Umemoto
[17]. Electrical Properties of ZnO Thin Films Grown on a-plane Sapphire Substrates using Catalytically Generated High-energy H2O
THIN SOLID FILMS 549/ 18-21 （2013年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]K. Yasui [共著者]N. Yamaguchi,T. Takeuchi,E. Nagatomi,T. Kato,H. Umemoto
[18]. Inference on the Productionn Mechanism of ZnO Thin Films from Activated Water and Dimethylzinc Molecules
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 52/9 096701/1-096701/4 （2013年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,T. Ishikawa,Y. Nishihara,K. Yasui,H. Nishiyama
[19]. Catalytic Decomposition of PH3 on Heated Tungsten Wire Surfaces
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 51/8 086501/1-086501/9 （2012年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,Y. Nishihara,T. Ishikawa,S. Yamamoto
[20]. In-situ production of PH3 from red phosphorus and atomic hydrogen
CHEMICAL PHYSICS LETTERS 514/1-3 26-28 （2011年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,Y. Nishihara,T. Ishikawa
[21]. Catalytic Decomposition of NH3 on Heated Ru and W surfaces
THIN SOLID FILMS 519/14 4429-4431 （2011年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H.Umemoto [共著者]H. Umemoto,Y. Kashiwagi,K. Ohdaira,H. Kobayashi,K. Yasui
[22]. Activation and Decomposition of N2 on Heated Tungsten Filament Surfaces
Journal of Physical Chemistry C 115/14 6748-6756 （2011年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,T. Funae,Y. A. Mankelevich
[23]. Production and Detection of H atoms and Vibrationally excited H2 molecules in CVD Processes
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 16/10-12 275-290 （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto
[24]. A Clean Source of Ground-state N atoms: Decomposition of N2 on Heated Tungsten
Appl. Phys. Express 3/7 076701- （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto
[25]. 加熱金属触媒表面におけるラジカル生成機構(総説)
表面科学 31/4 191-195 （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]梅本宏信 [共著者]梅本宏信
[26]. Order of Reaction between Photoresist and Atomic Hydrogen Generated by a Tungsten Hot-Wire Catalyst
Appl. Phys. Express 3/ 026501/1-026501/3 （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]T. Maruoka,A. Kono,H. Horibe,H. Umemoto
[27]. Substrate Temperature Dependence of the Photoresist Removal Rate using Atomic Hydrogen Generated by Tungsten Hot-Wire Catalyst
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REV 49/1 016701- （2010年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]T. Maruoka,A. Kono,H. Horibe,H. Umemoto
[28]. Catalytic Decomposition of H2O(D2O) on a Heated Ir Filament to Produce O and OH(OD) Radicals
The Open Chemical Physics Journal 2/ 32-36 （2009年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,H. Kusanagi
[29]. Detection of Radical Species Produced by Catalytic Decomposition of H2, O2 and their Mixtures on Heated Ir Surfaces
THIN SOLID FILMS 517/12 3446-3448 （2009年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,H. Kusanagi,K. Nishimura,M. Ushijima
[30]. Photoresist Removal Using Atomic Hydrogen Generated by Hot-Wire Catalyzer and Effects on Si-wafer Surface
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REV 48/2 026503- （2009年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. Yamamoto [共著者]H. Horibe,H. Umemoto,K. Takao,E. Kusano,M. Kase,S. Tagawa
[31]. Novel plasmaless photoresist removal method in gas phase at room temperature
ECS Transactions 19/3 423-429 （2009年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]T. Miura [共著者]M. Kekura,H. Horibe,M. Yamamoto,H. Umemoto
[32]. Catalytic Decomposition of O2, NO, N2O and NO2 on a Heated Ir Filament to Produce Atomic Oxygen
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 41/22 225505- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,H. Kusanagi
[33]. 有機ELの保護膜形成技術(解説)
月間ディスプレイ 14/9 49- （2008年） [査読] 無 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]部家彰 [共著者]松尾直人,南川俊治,仁木敏一,南茂平,増田淳,梅本宏信,松村英樹
[34]. Coverage Properties of SiNx Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposition on Trenched Substrates below 80 °C
THIN SOLID FILMS 516/10 3000-3004 （2008年） [査読] 有
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]A. Heya [共著者]T. Minamikawa,T. Niki,S. Minami,A. Masuda,H. Umemoto,N. Matsuo,,H. Matsumura
[35]. Coating Techniques of Metal Chambers for Remote Catalytic Chemical Vapor Deposition Applications
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS 26/2 309-311 （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,S. Setoguchi,H. Uemura,H. Matsumura
[36]. Production and Detection of Reducing and Oxidizing Radicals in the Catalytic Decomposition of H2/O2 Mixtures on Heated Tungsten Surfaces
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 103/3 034905- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,M. Moridera
[37]. Cat-CVD SiN Passivation Films for OLEDs and Packaging
Thin Solid Films 516/5 553- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]A. Heya [共著者]T. Minamikawa,T. Niki,S. Minami,A. Masuda,H. Umemoto,N. Matsuo,H. Matsumura
[38]. Catalytic CVD Processes of Oxidizing Species and the Prevention of Oxidization of Heated Tungsten Filaments by H2
Thin Solid Films 516/5 829- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,S.G. Ansari,T. Morimoto,S. Setoguchi,H. Uemura
[39]. Future Prospect of Remote Cat-CVD on the Basis of Gas-phase Diagnoses
Thin Solid Films 516/5 500- （2008年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,H. Matsumura
[40]. Production Yields of H(D) Atoms in the Reactions of N2(A 3 Sigma u+) with C2H4, C2H2 and their Deuterated Variants
JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS 127/1 014304- （2007年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto
[41]. H(D)-atom Yields in the Quenching of Xe(6s[3/2]1) by Methane, Ethane, Ethene, Ethyne, and their Isotopologues
JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS 125/3 034306- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto
[42]. Cat-CVD法による窒化シリコン薄膜の低温堆積-気相診断と膜質評価-(解説)
材料 55/2 142- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]梅本宏信 [共著者]梅本宏信,増田淳,松村英樹,南川俊治,部家彰,高野昌宏,米澤保人,仁木敏一,室井進
[43]. Formation of Highly Moisture-resistive SiNx Films on Si Substrate by Cat-CVD at Room Temperature
Thin Solid Films 501/1-2 154- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]T. Minamikawa [共著者]A. Heya,T. Niki,M. Takano,Y. Yonezawa,S. Muroi,S. Minami,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura
[44]. Various Applications of Silicon Nitride by Catalytic Chemical Vapor Deposition for Coating, Passivation and Insulating Films
Thin Solid Films 501/1-2 149- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]A. Masuda [共著者]H. Umemoto,H. Matsumura
[45]. High-Rate Deposition of SiNx Films over 100 nm/min by Cat-CVD Method at Low Temperatures below 80 °C
Thin Solid Films 501/1-2 55- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]T. Osono [共著者]A. Heya,T. Niki,T. Minamikawa,S. Muroi,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura
[46]. Rotational and Vibrational State Distributions of H2 Activated on a Heated Tungsten Filament
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 99/4 043510- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto [共著者]H. Umemoto,S.G. Ansari,H. Matsumura
[47]. Mass-Spectrometric Studies of Catalytic Chemical Vapor Deposition Processes of Organic Silicon Compounds Containing Nitrogen
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REV 45/2A 961- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto,T. Morimoto [共著者]S.G. Ansari,K. Yoneyama,T. Nakajima,A. Masuda,H. Matsumura,M. Nakamura,H. Umemoto
[48]. Magnesium Interlayered Diamond Coating on Silicon
Int. J. Ref. Met. Hard Mat. 24/6 418- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当する
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. A. Dar [共著者]S.G. Ansari,Z.A. Ansari,H. Umemoto,Y.-S. Kim,H.-K. Seo,G.-S. Kim,E.-K. Suh,H.-S. Shin
[49]. H2 Dilution Effect in the Cat-CVD Processes of the SiH4/NH3 System
Thin Solid Films 501/1-2 31- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto,S.G. Ansari [共著者]H. Umemoto,T. Morimoto,K. Yoneyama,A. Izumi,A. Masuda,H. Matsumura
[50]. Present Status and Future Feasibility for Industrial Implementation of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Technology
Thin Solid Films 501/1-2 58- （2006年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]H. Matsumura [共著者]A. Masuda,H. Umemoto
[51]. 平成17年度リフレッシュ理科教室(北陸・信越支部石川会場)開催報告
応用物理教育 29/2 37- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]梅本宏信 [共著者]梅本宏信,水谷五郎,高村禅
[52]. Cat-CVD法によるガスバリア膜の低温形成(解説)
セラミックス 40/2 82- （2005年） [査読] 無 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]増田淳 [共著者]仁木敏一,部家彰,南川俊治,梅本宏信,松村英樹
[53]. Cat-CVD法の包装用ガスバリアフィルム製造工程への適用(解説)
月刊パックピア / - （2005年） [査読] 無 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]増田淳 [共著者]仁木敏一,部家彰,南川俊治,梅本宏信,松村英樹
[54]. Moisture-Resistive Properties of SiNx Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposition below 100 °C for Flexible Organic Light Emitting Diode Displays
Jpn. J. Appl. Phys. 44/4A 1923- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]A. Heya [共著者]T. Niki,M. Takano,Y. Yonezawa,T. Minamikawa,S. Muroi,S. Minami,T. Ikari,A. Izumi,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura
[55]. Quantification of Gas-Phase H-Atom Number Density by Tungsten Phosphate Glass
Jpn. J. Appl. Phys. 44/1B 732- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto,T. Morimoto [共著者]H. Umemoto,K. Yoneyama,A. Masuda,H. Matsumura,K. Ishibashi,H. Tawarayama,H. Kawazoe
[56]. Technique for the Production, Preservation, and Transportation of H Atoms in Metal Chambers for Processings
J. Vac. Sci. Technol. A 23/6 1728- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 責任著者
[著者] [責任著者]H. Umemoto,S.G. Ansari [共著者]H. Umemoto,T. Morimoto,K. Yoneyama,A. Masuda,H. Matsumura,M. Ikemoto,K. Ishibashi
[57]. Improvement of Deposition Rate by Sandblast Treatment of Tungsten Wire in Catalytic Chemical Vapor Deposition
Jpn. J. Appl. Phys. 44/4A 1943- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]A. Heya [共著者]T. Niki,M. Takano,Y. Douguchi,Y. Yonezawa,T. Minamikawa,S. Muroi,S. Minami,A. Izumi,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura
[58]. Preparation of Low-Stress SiNx Films by Catalytic Chemical Vapor Deposition at Low Temperatures
Jpn. J. Appl. Phys. 44/6A 4098- （2005年） [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
[責任著者・共著者の別] 共著者
[著者] [責任著者]M. Takano [共著者]T. Niki,A. Heya,T. Osono,Y. Yonezawa,T. Minamikawa,S. Muroi,S. Minami,A. Masuda,H. Umemoto,H. Matsumura

静岡大学

静岡大学教員データベース - 教員個別情報 : 梅本 宏信 （Umemoto Hironobu）

論文 等

静岡大学教員データベース - 教員個別情報 : 梅本宏信（Umemoto Hironobu）

論文　等