[1]. CuとFeを担持したTiO2 薄膜の光触媒特性の評価
応用物理関係学会 28p-F2-12 （2013年3月） 招待講演以外
[発表者]山田良隆,以西 雅章,渥美剛,白木遼
[備考] 神奈川工大
[2]. Preparation and evaluation of Ga2O3oxygen sensors
IUMRS-Int.Conf. on Eelectronic Mater. （2012年12月） 招待講演以外
[発表者]M. Isai,T. Yamamoto,T. Torii
[備考] Yokohama, Kanagawa
[3]. Co-catalytic effect on improving the photocatalytic properties of TiO2 films
IUMRS-Int.Conf. on Electronic Mater. （2012年11月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,I. Nakamura,Y. Hieda,F. Fukazawa,Y. Hoshi
[備考] Yokohama, Kanagawa
[4]. Stabilized Pt deposition on the TiO2 films and their photocatalytic properties
日本MRS学術シンポジウム （2012年5月） 招待講演以外
[発表者]M. Isai,I. Nakamura,T. Sato,Y. Hoshi
[備考] Yokuhama, Kanagawa
[5]. Ga2O3酸素センサの作製と評価
電子情報通信学会（信学技報） （2012年5月） 招待講演以外
[発表者]以西 雅章,山本貴弘,鳥井琢磨
[備考] 豊橋技大
[6]. スパッタリング法によるLiMn2O4 薄膜の生成と評価
電子情報通信学会（信学技報） （2012年5月） 招待講演以外
[発表者]丹羽彬夫,以西 雅章,中村光宏,野口貴史
[備考] 豊橋技大
[7]. TiO2 薄膜の光触媒特性向上のための助触媒効果
電子情報通信学会（信学技報） （2012年5月） 招待講演以外
[発表者]以西 雅章,中村郁太,稗田祐貴,深澤史也,星陽一
[備考] 豊橋技大
[8]. Preparation and evaluation of Ga2O3 oxygen sensors
日本MRS学術シンポジウム （2011年12月） 招待講演以外
[発表者]M. Isai,T. Yamamoto,D. Kayano,H. Ikeda,Y.Suzuki
[備考] Yokohama, Kanagawa
[9]. Preparation and evaluation of LiMn2O4films prepared by sputtering method
日本MRS学術シンポジウム （2011年5月） 招待講演以外
[発表者]M. Isai,M. Nakamura
[備考] Yokohama, Kanagawa
[10]. Ga2O3 薄膜センサの作製と評価
電子情報通信学会（信学技報） （2011年5月） 招待講演以外
[発表者]山本貴弘,茅野真也,池田紘基,鈴木嘉文,以西 雅章
[備考] 名古屋大学
[11]. スパッタリング法によるLiMn2O4 薄膜の生成と評価
電子情報通信学会（信学技報） （2011年5月） 招待講演以外
[発表者]中村光宏,丹羽彬夫,以西 雅章
[備考] 名古屋大学
[12]. TiO2 薄膜への安定した白金担持と光触媒特性
電子情報通信学会（信学技報） （2010年12月） 招待講演以外
[発表者]中村郁太,佐藤孝紀,以西雅章,星陽一
[備考] 名古屋大学
[13]. A step annealing effect of SrS:Cu films for blue EL elements
日本MRS学術シンポジウム （2010年12月） 招待講演
[発表者]M. Isai,S. Kato
[備考] Yokohama, Kanagawa
[14]. Preparation and evaluation of Ga2O3oxygen sensors
日本MRS学術シンポジウム （2010年12月） 招待講演以外
[発表者]M. Isai,S. Kayano,N.Yamaguchi
[備考] Yokohama, Kanagawa
[15]. Preparation of Pt-deposited TiO2 films and evaluation of photocatalytic properties
日本MRS学術シンポジウム （2010年12月） 招待講演以外
[発表者]I. Nakamura,T. Ito,M. Isai,Y. Hoshi
[備考] Yokohama, Kanagawa
[16]. Investigation of deposition condition of LiMn2O4 films prepared by RF magnetron sputtering
日本MRS学術シンポジウム （2010年12月） 招待講演以外
[発表者]M. Isai,M. Nakamura
[備考] Yokuhama. Kanagawa
[17]. 青色EL素子用SrS:Cu薄膜のステップアニール効果
電子情報通信学会（信学技報） （2010年5月） 招待講演以外
[発表者]以西 雅章,加藤卓
[備考] 静岡大学 工学部
[18]. RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4 薄膜の生成条件の調査
電子情報通信学会（信学技報） （2010年5月） 招待講演以外
[発表者]中村光宏,以西 雅章
[備考] 静岡大学 工学部
[19]. Ga2O3 酸素センサの作製と評価
電子情報通信学会（信学技報） （2010年5月） 招待講演以外
[発表者]茅野真也,山口直也,以西 雅章
[備考] 静岡大学 工学部
[20]. 白金担持TiO2 薄膜の生成と光触媒特性
電子情報通信学会（信学技報） （2010年5月） 招待講演以外
[発表者]中村郁太,伊藤達也,以西 雅章,星陽一
[備考] 静岡大学 工学部
[21]. Preparation and evaluation of SrS:Cu fims for blue elements
日本MRS学会 （2009年12月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,Y.Kurachi,N.Yamada,T.Takeuchi,,T.Hochin
[備考] 開催場所（横浜）
[22]. Preparation of TiO2 thin films by RF magnetron sputtering method and their photocatalystic properties
日本MRS学会 （2009年12月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,T.Ito,T.Endo,T.Sakai,,Y.Hoshi
[備考] 開催場所（横浜）
[23]. Preparation of Ga2O3 films and evaluation of oxgen sensing properties
日本MRS学会 （2009年12月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,S.Kayano,,T.Horiuchi
[備考] 開催場所（横浜）
[24]. Effect of substrate temperature on the crystal properties of LiMn2O4 films by RF magnetron sputtering
Inter Academia （2009年9月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,K.Nakamura,T.Hosokawa,T.Izumichi,,S.Sekikawa
[備考] 開催場所（Kazimierz Dolny and Warsaw Poland）
[25]. 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の評価
電子情報通信学会(技術研究報告) （2009年5月） 招待講演以外
[発表者]山田典史,宝珍敬志,以西雅章
[備考] 開催場所（豊橋技術科学大学サテライトオフィス）
[26]. Ga2O3薄膜の作製と酸素センサ特性の評価
電子情報通信学会(技術研究報告) （2009年5月） 招待講演以外
[発表者]茅野真也,堀内郁志,以西雅章
[備考] 開催場所（豊橋技術科学大学サテライトオフィス）
[27]. RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜 の生成と光触媒特性
電子情報通信学会(技術研究報告) （2009年5月） 招待講演以外
[発表者]伊藤達也,遠藤立弥,以西雅章,境哲也,星陽一
[備考] 開催場所（豊橋技術科学大学サテライトオフィス）
[28]. 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
電子情報通信学会(技術研究報告) （2009年5月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,倉地雄史,山田典史,武内俊憲,宝珍敬志
[備考] 開催場所（豊橋技術科学大学サテライトオフィス）
[29]. RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜生成への石英円筒の効果
電子情報通信学会(技術研究報告) （2009年5月） 招待講演以外
[発表者]細川貴之,関川智士,以西雅章
[備考] 開催場所（豊橋技術科学大学サテライトオフィス）
[30]. RFマグネトロンスパッタリング法によるβ-Ga2O3薄膜の生成と酸素センサへの応用
第56回春季応用物理学関係連合講演会 （2009年4月） 招待講演以外
[発表者]茅野真也,堀内郁志,以西雅章
[備考] 開催場所（つくば大学）
[31]. RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜生成へのドーナツ円板の効果
第56回春季応用物理学関係連合講演会 （2009年4月） 招待講演以外
[発表者]細川貴之,関川智士,以西雅章
[備考] 開催場所（つくば大学）
[32]. RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜 の低温生成
第56回春季応用物理学関係連合講演会 （2009年4月） 招待講演以外
[発表者]遠藤立弥,伊藤達也,以西雅章,石原太樹,佐藤紀幸,望月翔平,境哲也,星陽一
[備考] 開催場所（つくば大学）
[33]. Preparation of LiMn2O4 films by RF magnetron sputtering method
IUMRS-ICA2008 （2008年12月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,K.Nakamura,T.Hosokawa,S.Sakai,,S.Hosoe
[備考] 開催場所（Nagoya Congress Center）
[34]. Evaluation of step-annealed SrS:Cu films for blue EL elements
IUMRS-ICA2008 （2008年12月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,N.Yamada,K.Itakura,Y.Kurachi
[備考] 開催場所（Nagoya Congress Center）
[35]. Preparation of β-Ga2O3 films by RF magnetron sputtering method
IUMRS-ICA2008 （2008年12月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,T.Horiuchi
[備考] 開催場所（Nagoya Congress Center）
[36]. Low temperature Preparation of TiO2 films by RF magnetron sputtering method
IUMRS-ICA2008 （2008年12月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,T.Endo,Y.Mizuchi
[備考] 開催場所（Nagoya Congress Center）
[37]. Effect of doughnut-type plate on crystal properties of LiMn2O4 films prepared by RF magnetron sputtering
IUMRS-ICA2008 （2008年12月） 招待講演以外
[発表者]M.Isai,T.Hosokawa,K.Nakamura,S.Hosoe,S.Sakai
[備考] 開催場所（Nagoya Congress Center）
[38]. Preparation of β-Ga2O3by RF magnetron sputtering method
Inter Academia （2008年9月） 招待講演以外
[発表者]T.Horiuchi,M.Isai
[備考] 開催場所（Pecs Hungary）
[39]. Effect of doughnut-type plate on crystal properties of LiMn2O4films prepared by RF magnetron sputtering
Inter Academia （2008年9月） 招待講演以外
[発表者]T.Hosokawa,K.Nakamura,S.Hosoe,S.Sakai,M.Isai
[備考] 開催場所（Pecs Hungary）
[40]. ステップアニールによる青色EL素子用SrS:Cu薄膜の評価
電子情報通信学会(技術研究報告) （2008年5月） 招待講演以外
[発表者]山田典史,板倉功周,倉地雄史,以西雅章
[備考] 開催場所（名古屋(名工大)）
[41]. 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
電子情報通信学会(技術研究報告) （2008年5月） 招待講演以外
[発表者]倉地雄史,板倉功周,山田典史,以西雅章
[備考] 開催場所（名古屋(名工大)）
[42]. RFマグネトロンスパッタリング法によるβ-Ga2O3 薄膜の生成
電子情報通信学会(技術研究報告) （2008年5月） 招待講演以外
[発表者]堀内郁志,以西雅章
[備考] 開催場所（名古屋(名工大)）
[43]. RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜の生成
電子情報通信学会(技術研究報告) （2008年5月） 招待講演以外
[発表者]遠藤立弥,水地裕一,以西雅章
[備考] 開催場所（名古屋(名工大)）
[44]. RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜生成へのドーナツ円板の効果
電子情報通信学会(技術研究報告) （2008年5月） 招待講演以外
[発表者]細川貴之,中村功一,細江俊介,酒井里,以西雅章
[備考] 開催場所（名古屋(名工大)）
[45]. RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成
電子情報通信学会(技術研究報告) （2008年5月） 招待講演以外
[発表者]中村功一,細川貴之,酒井里,細江俊介,以西雅章
[備考] 開催場所（名古屋(名工大)）
[46]. β-Ga2O3 oxygen gas sensors at high temperature using chemical solution method
応用物理 （2006年3月） 招待講演以外
[備考] 開催場所（武蔵工業大学）
[47]. RFマグネトロンスパッタ法によるLi二次電池用Li-Mn酸化物薄膜の生成
応用物理学会 （2006年3月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,長南祐次,東條靖,中村功一,細川貴之,倉地雄史,堀野友良
[備考] 開催場所（青山学院大学）
[48]. Properties of β-Ga2O3 oxygen gas sensors at high temperature
応用物理学会 （2006年3月） 招待講演以外
[発表者]Marilena Bartic,Crystian-Ioan Baban,Masami Ogita,,Masaaki Isai
[備考] 開催場所（青山学院大学）
[49]. SrS:Cu薄膜の結晶特性への高速熱処理効果
応用物理 （2006年3月） 招待講演以外
[備考] 開催場所（武蔵工業大学）
[50]. Liを含んだMn酸化物薄膜の生成
応用物理 （2006年3月） 招待講演以外
[備考] 開催場所（武蔵工業大学）
[51]. Trajectry of research on reactively evaporated Mn oxide films
会議名(第16回日本MRS-Jシンポジウム) （2005年12月） 招待講演
[発表者]以西 雅章
[備考] 主催団体名(日本MRS学会) 開催地（東京）
[52]. Li二次電池用Mn酸化物薄膜の生成
応用物理 （2005年9月） 招待講演以外
[備考] 開催場所（徳島大学）
[53]. SUS cellによるMn蒸発物の酸化防止
応用物理 （2005年3月） 招待講演以外
[備考] 開催場所（埼玉大学）
[54]. SrS:Cu薄膜の結晶特性への高速熱処理効果
応用物理学会 （2005年3月） 招待講演以外
[備考] 開催場所（埼玉大学）
[55]. 反応性蒸着中のSUSセルによるMn蒸発物の酸化抑制
2003年度電気関係学会東海支部連合大会 265 pp.133 （2003年10月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,清水寛俊,永塩豊,藤安洋
[56]. 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
2003年度電気関係学会東海支部連合大会 267 pp.134 （2003年10月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,増田健一郎,深谷健太郎,稲垣優輝,杉田樹宏,市川哲章,藤安洋
[57]. 反応性蒸着中の基盤温度と蒸着速度の関係M
2003年度電気関係学会東海支部連合大会 264 pp.132 （2003年10月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,清水寛俊,永塩豊,上木原浩輝,藤安洋
[58]. 金属の液体・固体状態におけるホール効果と磁気抵抗効果の同時測定による一考察
2,003年(平成14年)秋季第64回応用物理学関係連合講演会 （2003年8月） 招待講演以外
[発表者]荻田正巳,伊藤孝典,C-I.Baban,以西雅章,茂木巌,淡路智
[59]. 反応性蒸着中のMn蒸発物の酸化防止に対するSUSセルの有効性
2,003年(平成14年)春季第50回応用物理学関係連合講演会 No.2 pp.674 28p-S-2 （2003年3月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,西田英治,清水寛俊,本田真士,藤安洋
[60]. Hg,Gaの固体・液体状態におけるホール効果と磁気抵抗効果の同時測定
2,00年(平成14年)春季第50回応用物理学関係連合講演会 （2003年3月） 招待講演以外
[発表者]荻田正巳,中尾光利,C-I.Baban,以西雅章,茂木巌,淡路智
[61]. 反応性蒸着中のMn蒸発物の酸化防止に関するSUSセルの有効性
平成14年度電気関係学会東海支部連合大会 269 pp.135 （2002年9月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,西田英治,清水寛俊,本田真士,藤安洋
[62]. 反応性蒸着法により生成されたMnスピネル薄膜
平成14年度電気関係学会東海支部連合大会 270 pp.135 （2002年9月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,藤安洋,柏倉隆之
[63]. 液体・固体状態における電流磁気効果の検討
2,002年(平成14年)春季第49回応用物理学関係連合講演会講演予講集 27p-L-1I （2002年3月） 招待講演以外
[発表者]中尾光利,荻田正巳,以西雅章,茂木巌,淡路智
[64]. 反応性蒸着におけるMn蒸発速度の蒸発源温度依存性
2,002年(平成13年)春季第48回応用物理学関係連合講演会 No.2 pp.603 27p-YB-11 （2002年3月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,西田英治,河村浩司,石野健英,藤安洋
[65]. 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
2,002年(平成14年)春季第48回応用物理学関係連合講演会 No.3 pp.1467 29p-YF-6 （2002年3月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,笠井崇史,深谷健太郎,大石智生,清水寛俊,石野健英,藤安洋
[66]. 電子線蒸着法による青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
2001年度電気関係学会東海支部連合大会 315 pp.158 （2001年11月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,笠井崇史,大石智生,深谷健太郎,清水寛俊,石野健英,藤安洋
[67]. 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
2001年度電気関係学会東海支部連合大会 314 pp.157 （2001年11月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,笠井崇史,石野健英,藤安洋
[68]. 反応性蒸着中のMn蒸発物の酸化防止法
2001年度電気関係学会東海支部連合大会 305 pp.153 （2001年11月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,藤安洋
[69]. 液体・固体状態におけるホール効果と磁気抵抗効果
第5回新磁気科学シンポジウム （2001年11月） 招待講演以外
[発表者]中尾光利,荻田正巳,以西雅章,茂木巌,淡路智
[70]. 液体・固体金属のホール効果と磁気抵抗効果の比較
2,001年(平成13年)秋季第62回応用物理学関係連合講演会講演予講集 11p-ZF-/1 （2001年9月） 招待講演以外
[発表者]中尾光利,荻田正巳,以西雅章,茂木巌,淡路智
[71]. 反応性蒸着中のMn蒸発物の酸化防止
平成13年度電気関係学会四国支部連合大会 pp.172 （2001年9月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,藤安洋
[72]. 反応性蒸着中のMn蒸発物の酸化防止法
2,001年エレクトロニクスソサイエティ大会講演論文集2p.18 C-6-11 （2001年9月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,藤安洋
[73]. カーボンヒーターによるSrS:Cu薄膜の作製と評価
2,001年エレクトロニクスソサイエティ大会講演論文集2p.35C-9-2 （2001年9月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,笠井崇史,石野健英,藤安洋
[74]. 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
2,001年(平成13年)秋季第62回応用物理学関係連合講演会講演予講集 No.3 p.1105 14a-P14-8 （2001年9月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,笠井崇史,石野健英,藤安洋
[75]. 反応性蒸着過程でのMn蒸発物の酸化防止法
2,001年(平成13年)秋季第62回応用物理学関係連合講演会講演予講集 No.2 p.469 13a-ZX-1 （2001年9月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,藤安洋
[76]. HWP法による短波長及び短発光寿命EL素子材料の作製・評価
ワイドギャップ半導体光・電子デバイス第162委員会(第24回)光電相互変換第125委員会(第172回)合同研究会資料p.37-43 （2001年4月） 招待講演以外
[発表者]藤安洋,以西雅章,生一徳司,石田明広
[備考] 開催場所（東京主婦会館プラザエフ）
[77]. 液体金属のホール効果と磁気抵抗効果(半導体及び強磁場での比較)
電気化学会第68大会 （2001年4月） 招待講演以外
[発表者]荻田正巳,中尾光利,以西雅章,藤波達雄,茂木巌,淡路智
[78]. 反応性蒸着中におけるMn蒸発物の酸化を防ぐ新型セルの開発
2,001年(平成13年)春季第48回応用物理学関係連合講演会講演予講集 No.2 30a-P10-12 （2001年3月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,島田剛嘉,松井才助,藤安洋
[79]. カーボンヒーターによるSrS:Cu薄膜の生成
2,001年(平成13年)春季第48回応用物理学関係連合講演会講演予講集 No.2 pp.638 30a-P10-22 （2001年3月） 招待講演以外
[発表者]以西雅章,笠井崇史,河村義彦,田濃邦彦,藤安洋
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