The University of Tokyo 1998/3 The University of Tokyo 1995/3 The University of Tokyo 1993/3 |
Manufacturing Technology (Mechanical Engineering, Electrical and Electronic Engineering, Chemical Engineering) - Chemical reaction and process system engineering Informatics - Intelligent informatics Manufacturing Technology (Mechanical Engineering, Electrical and Electronic Engineering, Chemical Engineering) - Electric and electronic materials |
Development of an automatic modeling system of the reaction mechanism for chemical vapor deposition Computer-Alded Reaction Design (CARD) Development of an automatic experimental design system for chemical vapor deposition processes |
Chemical Vapor Deposition (CVD), Reaction Model, Chemical Kinetics |
http://www.geocities.co.jp/Berkeley/7503/ |
[1]. J101-C/2 119-123 (2018) [Refereed] refereed [Internationally co-authored papers] non-internationally co-authored paper [Lead author or co-author] co-author [Author] [責任著者]江間 義則 [共著者]小川 満太郎,高橋 崇宏 [2]. J100-C/12 619-622 (2017) [Refereed] refereed [Internationally co-authored papers] non-internationally co-authored paper [Lead author or co-author] co-author [Author] [責任著者]江間 義則 [共著者]高山 明大,高橋 崇宏 [3]. J100-C/11 545-548 (2017) [Refereed] refereed [Internationally co-authored papers] non-internationally co-authored paper [Lead author or co-author] co-author [Author] [責任著者]江間 義則 [共著者]増田 悠人,高橋 崇宏 [4]. The automatic experimental design for modeling the reaction mechanisms of chemical vapor deposition processes physica status solidi (c) 12/7 904-907 (2015) [Refereed] refereed [Internationally co-authored papers] non-internationally co-authored paper [Lead author or co-author] author [Author] [責任著者]Takahiro Takahashi [共著者]Yoshinori Ema [DOI] [5]. A calculation method of deposition profiles in chemical vapor deposition reactors using bio-inspired algorithms physica status solidi (c) 12/7 908-911 (2015) [Refereed] refereed [Internationally co-authored papers] non-internationally co-authored paper [Lead author or co-author] author [Author] [責任著者]Takahiro Takahashi [共著者]Taeka Inagaki,Shingo Nariai,Junichi Kodama,Masamoto Arakawa,Yoshinori Ema [DOI]
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[1]. Chemoinformatics, Materials-informatics and Process-informatics; Fundamentals and Frontiers CMC Research (2020) [Book type]book(research) [Sole author, co-author, or author and editor] contributor [Author]船津公人(監修) [REP page number] 146-153 [2]. (2017) [Book type]book(educational) [Sole author, co-author, or author and editor] single work [Notes] センサーと制御のテーマの作成 [3]. (2017) [Book type]book(educational) [Sole author, co-author, or author and editor] single work [Notes] 分布定数回路のテーマの作成 [4]. (2016) [Book type]book(educational) [Sole author, co-author, or author and editor] single work [Notes] センサーと制御のテーマの作成 [5]. (2016) [Book type]book(educational) [Sole author, co-author, or author and editor] single work [Notes] 分布定数回路のテーマの作成
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[1]. 化学気相堆積法のための多目的最適化アルゴリズムを用いた反応機構自動解析システムの開発(2) 第45回ケモインフォマティクス討論会 (2022/11/19) other [Presenter]高橋 崇宏, 小澤 鉄平, 久保田 伸輔 [Notes] 開催場所(福岡県春日市)
主催団体名(日本化学会ケモインフォマティクス部会) [2]. 化学気相成長法を対象とした反応モデル自動解析システムの開発 データサイエンス特別講義 (2022/11/15) invited [Presenter]高橋 崇宏 [Notes] 開催場所(オンライン)
主催団体名(奈良先端科学技術大学院大学) [3]. 化学気相堆積法のための多目的最適化アルゴリズムを用いた反応機構自動解析システムの開発 第44回ケモインフォマティクス討論会 (2021/12/10) other [Presenter]高橋 崇宏, 新井 天一郎, 久保田 伸輔, 仲澤 英祐 [Notes] 開催場所(オンライン)
主催団体名(日本化学会ケモインフォマティクス部会) [4]. CVD法における進化的多目的最適化アルゴリズムを用いた自動実験計画システムの開発と評価 第42回ケモインフォマティクス討論会 (2019/10/29) other [Presenter]亀井 健太, 仲澤 英祐, 土屋 諒介, 荒川 正幹, 高橋 崇宏 [Notes] 開催場所(東京都文京区)
主催団体名(日本化学会ケモインフォマティクス部会) [5]. 多様な形状のCVD反応装置における成膜速度分布厳密解の導出および計算速度向上 第42回ケモインフォマティクス討論会 (2019/10/29) other [Presenter]仲澤 英祐, 増岡 大起, 鈴木 健太, 高橋 崇宏 [Notes] 開催場所(東京都文京区)
主催団体名(日本化学会ケモインフォマティクス部会)
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[1]. 化学気相成長法のための自動研究開発システムの構築 ( 2021/4 ~ 2026/3 ) Grant-in-Aid for Scientific Research (C) leader [2]. 反応プロセスを対象とした自動研究開発システムの開発 ( 2013/4 ~ 2014/3 ) Grant-in-Aid for Scientific Research (C) leader [3]. 反応プロセスを対象とした自動研究開発システムの開発 ( 2012/4 ) Grant-in-Aid for Scientific Research (C) leader [4]. 反応プロセスを対象とした自動研究開発システムの開発 ( 2011/4 ) Grant-in-Aid for Scientific Research (C) leader [5]. 化学気相堆積法における進化論を用いた反応機構モデル自動解析システムの開発 ( 2005/4 ) Grant-in-Aid for Young Scientists (B) leader
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[1]. (2012/11 - 2013/10 ) [Offer orgnization] 科学技術振興機構 [System name] 研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)フィージビリティスタディ・ステージ 探索タイプ [2]. Automatic Reaction Modeling in Chemical Vapor Depositions Using Multiple Process Simulators (2003/10 ) [Offer orgnization] C&C振興財団 [System name] 国際会議論文発表者助成事業 [3]. (1997/4 ) [Offer orgnization] C&C振興財団 [System name] 国際会議論文発表者助成事業 |
[1]. (2002/11) [Notes] 授与・助成団体名(日本化学会情報化学部会) [2]. (2001/11) [Notes] 授与・助成団体名(日本化学会情報化学部会)
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[1]. 反応機構解析プログラムおよび当該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体、ならびに反応機構解析装置 [Application Number] 2002281981 (2002/9/26) [Patent Number] 3989346 |
[1]. 第39回ケモインフォマティクス討論会 (2016/9) [Role at conference, etc.] is leader [Site of conference, etc.] 静岡県浜松市 [Notes] 主催: 日本化学会 情報化学部会
共催: 日本薬学会、日本農芸化学会、日本分析化学会、日本コンピュータ化学会
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[1]. 学術雑誌等の編集(CICSJ Bulletin) (2023/3 - 2024/2 ) [Notes] 編集主査 [2]. 学術雑誌等の編集(CICSJ Bulletin) (2022/3 - 2023/2 ) [Notes] 編集主査 [3]. 学術雑誌等の編集(CICSJ Bulletin) (2021/3 - 2022/2 ) [Notes] 編集主査 [4]. 学術雑誌等の編集(CICSJ Bulletin) (2020/3 - 2021/2 ) [Notes] 編集主査 [5]. 学術雑誌等の編集(CICSJ Bulletin) (2019/3 - 2020/2 ) [Notes] 編集主査
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