[1]. 水素ガス製造方法および水素ガス製造装置 [出願番号] 2021-200814 (2021年12月10日)
[2]. アミノ基含有ポリエチレングリコール化合物の製造方法 [出願番号] 特願2021-060749 (2021年3月31日)
[3]. 高分子化合物水素化物の製造方法 [出願番号] 2020-052823 (2020年3月24日) [特許番号] 7474437 (2024年4月17日)
[4]. アミン化合物の製造方法 [出願番号] 2020-052830 (2020年3月24日) [特許番号] 7514465 (2024年7月3日)
[5]. 有機化合物の製造方法 [出願番号] 2020-052823 (2019年2月8日)
[6]. ファインバブルの製造装置及びファインバブルの製造方法 [出願番号] 特願2018-169968 (2018年9月11日) [特許番号] 7243972 (2023年3月13日)
[備考] 特開2020-040021、特願2018-169968、2018/09/11、2020/03/19、ファインバブルの製造装置及びファインバブルの製造方法、株式会社キャタラー他、B01F5/06、B01F3/04@Z
[7]. ファインバブルを用いた反応装置及び反応方法 [出願番号] 特願2018-169969 (2018年9月11日) [特許番号] 6712732 (2020年6月4日)
[備考] 特開2020-040022、特願2018-169969、2018/09/11、2020/03/19、ファインバブルを用いた反応装置及び反応方法、株式会社キャタラー他、B01J19/24@A、B01F3/04@Z、B01F5/06他
[8]. 混合器、ファインバブル含有流体生成装置、気液混相流体流れ形成方法及びファインバブル含有流体生成方法 [出願番号] 特願2018-138004 (2018年7月23日) [特許番号] 6999135 (2021年12月24日)
[備考] 特開2020-014984、特願2018-138004、2018/07/23、2020/01/30、混合器、ファインバブル含有流体生成装置、気液混相流体流れ形成方法及びファインバブル含有流体生成方法、株式会社ＰＭＴ他、B01F3/04@F、B01F1/00@A、B01F3/04@Z他
[9]. 難水溶性有機化合物の溶解システム、難水溶性有機化合物の溶解方法、及 び匂い検出システム [出願番号] 特願2018-022267 (2018年2月9日)
[10]. ケージド化合物及びケージド化合物の製造方法並びに発現方 [出願番号] 特願2017-105094 (2017年5月26日)
[備考] 特開2018-199640、特願2017-105094、2017/05/26、2018/12/20、ケージド化合物及びケージド化合物の製造方法並びに発現方法、国立大学法人静岡大学、C07D215/14
[11]. スルホン化合物の製造方法 [出願番号] 特願2017-099472 (2017年5月19日)
[備考] 特開2018-193340、特願2017-099472、2017/05/19、2018/12/06、スルホン化合物の製造方法、国立大学法人静岡大学 他、C07C315/02、C07C317/04、C07C317/12 他
[12]. スルホン化合物の製造方法 [出願番号] 特願2017-028851 (2017年2月20日)
[備考] 特願2017-028851、特開2018-135273、
2017/02/20、2018/08/30
スルホン化合物の製造方法
国立大学法人静岡大学 他
C07C315/02
C07C317/04
C07B61/00,300
[13]. 被覆負極活物質 [出願番号] 特願2016-30791 (2016年2月22日)
[備考] 特開2017-152082
被覆負極活物質
トヨタ自動車株式会社 他
2017年08月31日
特願2016-030791
2016年02月22日
H01M 4/587
[14]. 環状ポリマーの製造方法及び環状ポリ乳酸樹脂組成物 [出願番号] 特願2015-163060 (2015年8月20日)
[備考] 特開2017-039863
環状ポリマーの製造方法及び環状ポリ乳酸樹脂組成物
株式会社リコー
2017年02月23日
特願2015-163060
2015年08月20日
C08G 63/81
[15]. 気相－液相－液相化学反応を用いた有機合成法 [出願番号] 特願2015-138175 (2015年7月9日)
[備考] 特開2017-019743
気相－液相－液相化学反応を用いた有機合成法
国立大学法人静岡大学 他
2017年01月26日
特願2015-138175
2015年07月09日
C07C 45/64
[16]. ポリマーとその製造方法 [出願番号] 特願2014-192515 (2014年9月22日)
[備考] 特開2016-060897
ポリマーとその製造方法
株式会社リコー
2016年04月25日
特願2014-192515
2014年09月22日
C08G 63/87
[17]. 非水電解質二次電池 [出願番号] 特願2014-151069 (2014年7月24日)
[備考] 特開2016-025070
非水電解質二次電池
トヨタ自動車株式会社 他
2016年02月08日
特願2014-151069
2014年07月24日
H01M 10/0567
[18]. 光酸素酸化による酸化生成物の，改良された製造方法 [出願番号] 特願2014-46542 (2014年3月10日) [特許番号] 6282005 (2018年2月2日)
[備考] 特開2015-168667
光酸素酸化による酸化生成物の，改良された製造方法
国立大学法人静岡大学 他
2015年09月28日
特願2014-046542
2014年03月10日
C07B 61/00
[19]. 過酸化水素合成方法 [出願番号] 特願2013-152163 (2013年7月22日)
[備考] 特開2015-020940
過酸化水素合成方法
国立大学法人静岡大学 他
2015年02月02日
特願2013-152163
2013年07月22日
C01B 15/023
[20]. ポリマーの製造方法、及びポリマー生成物 [出願番号] 特願2013-101179 (2013年5月13日)
[備考] 特開2014-221855
ポリマーの製造方法、及びポリマー生成物
株式会社リコー
2014年11月27日
特願2013-101179
2013年05月13日
C08G 63/08
[21]. 芳香族アミン化合物の製造方法 [出願番号] 特願2012-140292 (2012年6月22日)
[備考] 特開2014-005217
芳香族アミン化合物の製造方法
帝人株式会社 他
2014年01月16日
特願2012-140292
2012年06月22日
C07C209/36
[22]. 基質と水素との反応生成物の製造方法 [出願番号] 特願2011-158551 (2011年7月20日) [特許番号] 5936027 (2016年5月20日)
[備考] 特開2013-023460
基質と水素との反応生成物の製造方法
ＪＮＣ株式会社 他
2013年02月04日
特願2011-158551
2011年07月20日
C07B 35/02
[23]. ポリマー粒子とその製造方法 [出願番号] 特願2010-176518 (2010年8月5日) (2014年9月12日)
[備考] 特許公開2011－208116
【出願日】平成２２年８月５日（２０１０．８．５）
【出願人】株式会社リコー, 国立大学法人静岡大学
【発明者】間瀬 暢之, 佐古 猛, 岡島 いづみ, 森 俊介, 石塚 潤, 山内 祥敬, 根本 太一, 田中 千秋
[24]. ポリマーの製造方法 [出願番号] 特願2010-173296 (2010年8月2日) (2014年12月26日)
[備考] 特許公開2011－208115
【出願日】平成２２年８月２日（２０１０．８．２）
【出願人】株式会社リコー, 国立大学法人静岡大学
【発明者】間瀬 暢之, 佐古 猛, 岡島 いづみ, 森 俊介, 石塚 潤, 根本 太一, 田中 千秋, 山内 祥敬
[25]. ポリマー粒子及びその製造方法 [出願番号] 特願2010-049992 (2010年3月8日) (2015年12月18日)
[備考] 特許公開2011－184531
【出願日】平成２２年３月８日（２０１０．３．８）
【出願人】株式会社リコー, 国立大学法人静岡大学
【発明者】佐古 猛, 間瀬 暢之, 岡島 いづみ, 森 俊介, 水野 慧士, 山内 祥敬, 根本 太一, 田中 千秋, 関口 聖之
[26]. （Ｅ）－２－シクロペンタデセノンの製造方法及びそれを用いたムスコンの製造方法 [出願番号] 特願2007-291343 (2007年11月8日)
[備考] 特許公開2009－114145
【出願日】平成１９年１１月８日（２００７．１１．８）
【出願人】国立大学法人静岡大学
【発明者】高部 圀彦, 間瀬 暢之
[27]. ２－シクロペンタデセノンの製造方法 [出願番号] 特願2006-285550 (2006年10月19日)
[備考] 特許公開2008－100951
【出願日】平成１８年１０月１９日（２００６．１０．１９）
【出願人】川口薬品株式会社, 国立大学法人静岡大学
【発明者】高部 圀彦, 間瀬 暢之, 清水 泰博, 奥井 信之
[28]. ムスコンのアセタール付加体、その調製方法、並びに（±）－ムスコンの光学分割方法 [出願番号] 特願2003-174469 (2003年6月19日) (2010年5月14日)
[備考] 特許公開2005－008555
【出願日】平成１５年６月１９日（２００３．６．１９）
【出願人】川口薬品株式会社, 高部 圀彦
【発明者】高部 圀彦, 杉浦 全隆, 間瀬 暢之
[29]. ムスコンのアセタール付加体、その調製方法、並びに（±）－ムスコンの光学分割方法 [出願番号] 特願2003-095454 (2003年3月31日) (2010年1月8日)
[備考] 特許公開2004－300070
【出願日】平成１５年３月３１日（２００３．３．３１）
【出願人】川口薬品株式会社, 高部 圀彦
【発明者】高部 圀彦, 杉浦 全隆, 間瀬 暢之
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