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静岡大学教員データベース - 教員個別情報 : 立元 雄治 (Tatemoto Yuji)

著書 等

【著書 等】
[1]. コスト削減と環境対応に向けた製造現場の省エネルギー化技術
情報機構 (2023年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,他23名 [担当範囲] 第1章第4節第4項材料乾燥工程における省エネルギー対策 [総頁数] 234 [担当頁] pp.111-118
[2]. トコトンやさしい乾燥技術の本
日刊工業新聞社 (2021年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,中村正秋 [総頁数] 160 [担当頁] 1-160

[3]. Powder Technology Handbook, Forth Edition
CRC Press (2020年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 分担執筆
[著者]立元雄治他89名 [担当範囲] 5.12 Drying [担当頁] 6ページ
[4]. 分離プロセスの最適化とスケールアップの進め方
技術情報協会 (2019年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 分担執筆
[著者]立元雄治他79名 [担当範囲] 第9章3節 乾燥速度向上および省エネルギー化のポイント [担当頁] 10ページ
[5]. 乾燥 入門
日刊工業新聞社 (2019年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,中村正秋 [担当範囲] 第3章 [総頁数] 176 [担当頁] pp.93-166
[6]. 化学プロセスのスケールアップ、連続化
技術情報協会 (2019年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 分担執筆
[著者]立元雄治他71名 [担当範囲] 第6章 第1節 乾燥操作の基本原理と乾燥装置の種類、選定法、設計法 [総頁数] 696 [担当頁] p351-361(11ページ分)
[7]. 産業応用のための洗浄の実務
情報機構 (2018年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 分担執筆
[著者]立元雄治他16名 [担当範囲] 第3章第2節 乾燥のメカニズムと乾燥方法 [総頁数] 281 [担当頁] pp.113-123
[8]. 粉体の表面処理・複合化技術集大成
テクノシステム (2018年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 分担執筆
[著者]立元雄治他134名 [担当範囲] 第1章,第10節乾燥 [総頁数] 726 [担当頁] pp.119-128
[9]. 分離技術のシーズとライセンス技術の実用化
分離技術会 (2018年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 分担執筆
[著者]立元雄治他39名 [担当範囲] 減圧流動層を用いた低温度・高速度乾燥技術の応用 [総頁数] 138 [担当頁] pp.74-79
[10]. 粉体用語ポケットブック
日刊工業新聞社 (2017年)
[著書の別]著書(教育)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元 雄治,他13名
[備考] 日本粉体工業技術協会編,33用語を担当
[11]. 粉体・ナノ粒子の創製と製造・処理技術-第5章17節乾燥装置の選定と設計
テクノシステム (2014年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元 雄治,中村正秋
[備考] 全840ページ中の395-402(8ページ分) 全著者90名
[12]. 分散・塗布・乾燥の基礎と応用
株式会社テクノシステム (2014年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元 雄治他43名
[備考] I-3-4-1 乾燥方法,I-3-4-1 ハイブリッド乾燥
[13]. 粉体工学ハンドブック
朝倉書店 (2014年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元 雄治他100名程度
[備考] 3.11.2 乾燥装置
[14]. 薄膜塗布技術と乾燥トラブル対策
技術情報協会 (2013年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元 雄治,中村 正秋他100名程度
[備考] 第12章第11節 重合トナーの乾燥技術
[15]. 第2版 初歩から学ぶ乾燥技術-基礎と実践
丸善出版 (2013年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]中村 正秋,立元 雄治
[備考] pp.68-162
[16]. 分離技術シリーズ27 実用乾燥技術集覧
分離技術会 (2013年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元 雄治,中村 正秋編著,立元雄治他32名
[備考] pp. 1-10, 53-54, 98-105, 180-188, 266-272
[17]. 基礎化学工学
共立出版 (2012年)
[著書の別]著書(教育)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]須藤 雅夫 編著,立元 雄治他5名
[備考] 第2章~第5章(pp. 15-78)
[18]. はじめての乾燥技術
日刊工業新聞社 (2011年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]中村正秋,立元雄治
[備考] 共著担当箇所(第5章83-126,第6章127-147)
[19]. 初歩から学ぶ粉体技術 第11章乾燥
工業調査会 (2010年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]内藤牧夫,牧野尚夫ほか32名
[備考] 共著担当箇所(第11章129-144)
[20]. 分離技術ハンドブック,第Ⅱ編分離操作,第9章乾燥・調湿
分離技術会 (2010年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]鈴木功,八木宏ほか200名
[備考] 共著担当箇所(第9章635-669, 705-712)
[21]. 樹脂の水系化/水性化技術-実製品での問題点改善と要求品質の確保-
情法機構 (2009年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,宮田進也ほか34名
[備考] 共著担当箇所(第2編,第3章,第1節283-288)
[22]. 最近の化学工学59 流動層技術の最近の進展
化学工学会 (2008年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,清水忠明ほか15名
[備考] 共著担当箇所(減圧流動層内における乾燥特性)
[23]. スラリーの安定化技術と調製事例
情報機構 (2008年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,椿淳一郎ほか35名
[備考] 共著担当箇所(第6章第4節 p.295-302)
[24]. エレクトロニクス分野における精密塗布・乾燥技術,第6章7節 重合トナーの乾燥技術
技術情報協会 (2007年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,中村正秋,吉田正道,山村方人他33名
[備考] 共著担当箇所(第6章7節382-393)
[25]. 乾燥大全集
情報機構 (2006年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,野田勝嗣ほか34名
[備考] 共著担当箇所(第1章1-18,第2章19-37)
[26]. 過熱水蒸気技術集成
NTS出版 (2005年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,野田勝嗣ほか23名
[備考] 共著担当箇所(C233-242)
[27]. 初歩から学ぶ乾燥技術
工業調査会 (2005年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]中村正秋,立元雄治
[備考] 共著担当箇所(全項目)
[28]. 化学工学の進歩36 環境調和型エネルギーシステム
槇書店 (2002年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]中村正秋,立元雄治ほか22名
[備考] 共著担当箇所(2章36-45)
[29]. 最近の化学工学52 乾燥工学の進展
化学工業社 (2000年)
[著書の別]著書(研究)
[単著・共著・編著等の別] 共著
[著者]立元雄治,坂東芳行,中村正秋ほか18名
[備考] 共著担当箇所(10節85-92)