| [1]. Observation of Liquid Movement during PVA Brush Deformation in Post-CMP Cleaning ECS Journal of Solid State Science and Technology   14/       024007  (2025年)   [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
 [責任著者・共著者の別]  責任著者
 [著者] M. Miwa, S. Suzuki, K. Ryota, T. Sanada    [DOI]
 [2]. Three-dimensional numerical simulation of the single-wafer spin rinsing process using OpenFOAM
 Japanese Journal of Applied Physics   64/1       01SP25  (2025年)   [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
 [責任著者・共著者の別]  共著者
 [著者] Y. Jinbo, T. Sanada    [DOI]
 [3]. Agitation inside the Liquid Film on Two-Fluid Jet Sprayed Surface
 Journal of Photopolymer Science and Technology   37/4   397-400    (2024年)   [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
 [責任著者・共著者の別]  責任著者
 [著者] N. Doi, S. Watanabe, H. Takahashi, S. Hamada, M. Imai, T. Sanada    [DOI]
 [4]. Global and local breakthrough curves: A concept for filtration design through analysis of internal concentration distribution using CFD
 Chemical Engineering Research and Design   207/   110-120    (2024年)   [査読] 有 [国際共著論文] 該当しない
 [責任著者・共著者の別]  共著者
 [著者] Y. Kasai, Y. Jinbo, H. Kamikawa, T. Sanada    [DOI]
 [5]. CMP工程後におけるPVAブラシ洗浄について
 砥粒加工学会誌   67/7   393-396    (2023年)   [査読] 無 [国際共著論文] 該当しない
 [責任著者・共著者の別]  責任著者
 [著者] 真田俊之, 濵田聡美
 
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				| [1]. 生体工学概論 コロナ社   (2006年)
 [著書の別]著書(教育)
 [単著・共著・編著等の別]  共著
 [備考] 共著担当箇所(2.2節 生体流体工学 24-32)
 
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				| [1]. Observation of PVA roller brush nodule deformation and liquid movement The 18th International Conference on Planarization/CMP Technology 2023   (2023年11月)  招待講演以外
 [発表者]S. Suzuki, Y. Mizushima, S. Hamada, R. Koshino, T. Sanada
 [2]. 光導波路を用いた混相流計測技術
 日本機械学会RC297第三回研究分科会  (2023年11月)  招待講演以外
 [発表者]真田俊之
 [3]. 二流体ジェット噴射面に形成される液膜厚さ分布への液体温度の影響
 応用物理学会界面ナノ電子科学研究会ポスター展  (2023年11月)  招待講演以外
 [発表者]渡部真将, 水嶋祐基, 高橋広毅, 濱田聡美, 今井正芳, 真田俊之
 [4]. 二流体ジェット噴射面における液膜内攪拌効果の検討
 応用物理学会界面ナノ電子科学研究会ポスター展  (2023年11月)  招待講演以外
 [発表者]土居尚人, 渡部真将, 水嶋祐基, 高橋広毅, 濱田聡美, 今井正芳, 真田俊之
 [5]. OpenFOAMを用いたエッチングを伴う回転円盤上での液膜流れの数値計算
 第84回応用物理学会秋季学術講演会  (2023年9月)  招待講演以外
 [発表者]神保佳典, 佐藤雅伸, 真田俊之
 
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				| [1]. 気泡列の安定性評価による気泡クラスター形成機構の解明  ( 2024年4月  ~ 2027年3月 )   基盤研究(B)   代表 
 [2]. 蒸気中の液滴固体面衝突における凝縮効果によるsplash発生抑制機序の解明  ( 2023年4月  ~ 2026年3月 )   基盤研究(B)   分担
 
 [3]. 脱CO2を目指した誘導帯電技術を用いた新たな半導体デバイス製造プロセスの創出  ( 2023年4月  ~ 2026年3月 )   基盤研究(C)   分担
 
 [4]. 高Oh液滴の固体面衝突直後に発生するsplashの相似則構築とメカニズム解明  ( 2020年4月  ~ 2023年3月 )   基盤研究(B)   分担
 
 [5]. 音波照射による微細孔への液体侵入促進および液置換・乾燥技術への展開  ( 2019年4月  )   基盤研究(C)   代表
 
 
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				| [1]. 液滴生成制御による水と水蒸気の混合噴流の物理力制御 (2014年10月  - 2015年1月 ) [提供機関] クリタ水・環境科学振興財団 [2]. 流体物理作用のその場観察による洗浄基盤技術の構築 (2013年6月  - 2014年1月 ) [提供機関] 公益財団法人 畠山文化財団
 [3]. 小型水蒸気2流体洗浄機の開発 (2011年4月  ) [提供機関] 浜松地域テクノポリス推進機構  [制度名] 試作開発支援事業
 [4]. 液体を乱さない単一マイクロバブル生成制御法の開発 (2010年4月  ) [提供機関] 浜松科学技術研究振興会  [制度名] 村田基金研究助成金
 [5]. 水蒸気と水の混合噴流による低環境負荷洗浄装置の開発 (2008年4月  ) [提供機関] NEDO  [制度名] 産業技術研究助成事業
 
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				| [1]. 日本機械学会 流体工学部門 フロンティア表彰  (2024年11月) [授与機関] 日本機械学会
 [2]. 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会 貢献賞   (2024年11月)
 [授与機関] 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会
 [3]. 2018年度日本混相流学会賞 論文賞  鉛直線上の2気泡間相互作用 (2019年8月)
 [授与機関] 日本混相流学会
 [4]. 日本混相流学会論文賞  (2013年8月)
 [5]. 化学工学会論文審査貢献賞  (2013年8月)
 
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				| [1]. オーガナイズド混相流フォーラム (2013年12月) [役割] 責任者以外  [開催場所] 千葉
 [2]. ASME-JSME-KSME Fluids Engineering Conference 2011 (2011年7月)
 [役割] 責任者以外  [開催場所] 浜松
 [備考] 学会主催者(日本機械学会,アメリカ機械学会,韓国機械学会)
 
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				| [1]. 日本機械学会論文集アソシエイトエディター (2018年4月  ) [2]. 学術雑誌等の編集(混相流) (2007年8月  - 2010年7月 )
 [備考] 編集委員
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